Für die Übertragung des hochpräzisen Schaltungsdesigns steht eine Chrom-Fotomaske zur Verfügung. Die Fotomaske ist der Musterfilm im Chipherstellungsprozess und einer der bestimmenden Faktoren für die Chipgenauigkeit und -qualität. Weitere Spezifikationen finden Sie wie folgt:
Nr.1 5-Zoll-Chrom-Maskenplatte (PAM180119-MASKW)
| Material | Soda Lime Maskenrohlinge |
| Größe | 5 Zoll |
| Dicke | ~0,06 Zoll |
| Ebenheit des Glases | ≤15 µm |
| Ebenheit der Maskenplatte | ≤15 µm |
| Glasdefekt | DDPSI für 0,5 µm < 1,0 PSI |
| Substratdefekt | DDPSI für 1,0 µm (sichtbar) |
| Vorbeschichtung | Vorbeschichtet mit positivem Photoresist ~500nm dick (Abweichung <10%) |
| Vorbacken | Vorgebacken und kompatibel mit 405 nm Laserstrahl |
| Cr-Dicke | 100 nm, Abweichung < 10 % |
| Reflektivität der Cr-Beschichtung | 11,0 ± 3,0 @ 436 nm |
| Cr-Beschichtung Optische Dichte | 3 ± 0,2 @ 450 nm |
| Lochdichte | ≤1PSI |
Nr.2 Fotomaske(PAM180904-MASKW)
ich. Abmessung (BxHxThickness): Quadrat 5″ x 5″ x .090″
ii. Substrat: Quarz
iii. Beschichtung: Antireflex-Chrom
NS. Mindestmerkmal / Kritische Dimension (CD): 1 µm +/- 0,1 µm
Nr.3 Chrom auf Quarz oder Sodakalk(PAM200303-MASKW)
Fotomaske; 4″ x 4″ x 0,090″, 1 Mikron min Strukturgröße, Chrom auf Quarz
Fotomaske; 4″ x 4″ x 0,090″, 5 Mikron min. Merkmalsgröße, Chrom auf Natronkalk
Nr.4 Chrom-Fotomaske(PAM200426-MASKW)
3" Chrom-Fotomaskenrohlinge
Chrombeschichtung ca. 100-110 nm Dicke
Natronkalkmaterial (Substrat), 1,5 mm dicke Platte
Photoresist AZ 1500 Serie positiver Photoresist empfindlich gegenüber 365 nm Wellenlänge
4" & 5" Chrom-Fotomaskenrohlinge
Chrombeschichtung ca. 100-110 nm Dicke
Natronkalkmaterial (Substrat), 2,2 mm dicke Platte
Photoresist AZ 1500 Serie positiver Photoresist empfindlich gegenüber 365 nm Wellenlänge
No.5 Chrom-Fotomaske (PAM190410-MASKW)
Chrom-Fotomaske (126 mm x 126 mm, mit Muster). Eine Auflösung von 20um sollte gut genug sein. Alle Maße können auf 20um aufgerundet werden.
Die Maske wird für die Photolithographie auf einem 4“-Wafer verwendet.
No.6 Fotomaskensubstrat aus Quarzglas (PAM201216-MASKW)
9" (225x225mm) Quarz-Fotomaske
min Naht/ Linienbreite: 2um
Präzision auf Naht: ±0.3um
Die Photomaske ist hauptsächlich in zwei Komponenten unterteilt, nämlich das Substrat und das lichtundurchlässige Material. Das lichtundurchlässige Material verschiedener Masken ist unterschiedlich. Üblicherweise wird als Substrat Quarzglas mit hoher Reinheit, niedrigem Wärmeausdehnungskoeffizienten und geringem Reflexionsvermögen verwendet. Die Photomaske ist in Chromplatte (Sodaglas, Quarzglas, Borosilikatglas), Trockenplatte, Film und Reliefplatte (APR) unterteilt. Die opake Schicht der Chromplatte ist eine Chromschicht mit einer Dicke von 0,1 um, die unter das Glas gesputtert wird.
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