Prueba de la oblea Monitor de la oblea simulada de la oblea

Prueba de la oblea Monitor de la oblea simulada de la oblea

Como fabricante de obleas simuladas, PAM-XIAMEN ofrece obleas simuladas / obleas de prueba / obleas de control de silicona, que se utilizan en un dispositivo de producción para mejorar la seguridad al comienzo del proceso de producción y se utilizan para la verificación de la entrega y la evaluación de la forma del proceso. Como las obleas de silicio ficticias se utilizan a menudo para experimentos y pruebas, el tamaño y el grosor de las mismas son factores importantes en la mayoría de las ocasiones. Hay disponibles obleas falsas de 100 mm, 150 mm, 200 mm o 300 mm.

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Descripción del Producto

Prueba de la oblea Monitor de la oblea simulada de la oblea

Como fabricante de obleas simuladas, PAM-XIAMEN ofrece obleas simuladas / obleas de prueba / obleas de control de silicona, que se utilizan en un dispositivo de producción para mejorar la seguridad al comienzo del proceso de producción y se utilizan para la verificación de la entrega y la evaluación de la forma del proceso. Como las obleas de silicio ficticias se utilizan a menudo para experimentos y pruebas, el tamaño y el grosor de las mismas son factores importantes en la mayoría de las ocasiones. Hay disponibles obleas falsas de 100 mm, 150 mm, 200 mm o 300 mm.

 

1. Test Wafer List

1.1 Single Side Polished Test Wafer N Type (200Nos)

Si. No ít. ESPECIFICACIONES SCL
1 Metodo de cultivo CZ
2 Diámetro de la oblea 150 ± 0,5 mm
3 Espesor de la oblea 675 ± 25 micras
4 Oblea de superficie Orientación <100> ± 2 °
5 dopante Fósforo
6 densidad de dislocaciones Menos de 5000 / cm2
8 Resistividad 4-7Ωcm
9 Radial Resistividad Variación (máx.) 15%
10 Llanura  
10 a · BOW (máx.) 60 micras
10b · TIR (max.) 6 micras
10c · TAPER (máx.) 12 micras
10d · WARP (máx.) 60 micras
11 Piso primaria  
11a · Longitud 57,5 ± 2,5 mm
11b · Orientación {110} ± 2 ° según la norma SEMI
11c secundaria plana Según la norma SEMI
12 Acabado de la superficie frontal pulido espejo
13 Max. partículas de tamaño ≥0.3μm 30
14 · Rasguños, Haze, Chips Edge, Piel de naranja y otros defectos Nulo
15 Back Surface Sin desperfectos grabado al
16 Requisito de embalaje Si se de vacío sellada en 10'environment Class' en packing.Wafers de doble capa se debe enviar en Fluorware ORION DOS cargadores de obleas o hacer equivalente de polipropileno ultra limpio

 

1.2 Double Side Polished Test Wafer N Type (150 Nos)

Si. No Artículo ESPECIFICACIONES SCL
1 Metodo de cultivo CZ
2 Diámetro de la oblea 150 ± 0,5 mm
3 Espesor de la oblea 25μm 675 ±
4 Oblea de superficie Orientación <100> ± 2 °
5 dopante Fósforo
6 densidad de dislocaciones Menos de 5000 / cm2
8 Resistividad 4-7Ωcm
9 Radial Resistividad Variación (máx.) 15%
10 Llanura  
10 a · BOW (máx.) 60 micras
10b · TIR (max.) 6 micras
10c · TAPER (máx.) 12 micras
10d · WARP (máx.) 60 micras
11 Piso primaria  
11a · Longitud 57,5 ± 2,5 mm
11b · Orientación {110} ± 2 ° según la norma SEMI
11c secundaria plana Según la norma SEMI
12 Acabado de la superficie frontal pulido espejo
13 Max. partículas de tamaño ≥0.3μm 30
14 · Chips rasguños, Haze, EDGE, Nulo
Piel de naranja y otros defectos
15 Back Surface pulido espejo
16 Requisito de embalaje Si se sellado al vacío en la clase '10'
environment in double layer packing.
Wafers should be shipped in Fluorware
ORION TWO wafer shippers or equivalent
make made from ultra clean polypropylene

 

1.3 Monitor Wafer/maniquí oblea

Monitor / maniquí oblea de silicio

Diámetro de la oblea Pulido oblea de superficie Espesor de la oblea Resistividad Partícula
Orientación
4 " 1 cara 100/111 250-500μm 0-100 0.2μm≤qty30
6 " 1 cara 100 500-675μm 0-100 0.2μm≤qty30
8 " 1 cara 100 600-750μm 0-100 0.2μm≤qty30
12 " 2 laterales 100 650-775μm 0-100 0.09μm≤qty100

 

1.4 REGENERATED 200mm WAFERS

Ít# PARÁMETRO Unidades Valor Notas
1 Método de crecimiento   CZ  
2 Orientación   1-0-0  
3 Resistividad Ωм.см 1-50  
4 Tipo / dopante   р, n /  
Boro, fósforo
5 Espesor мкм 1гр. - 620,  
2гр. - 650
3гр. - 680
4гр. - 700
5гр. - 720
6 GBIR (TTV мкм 1-3гр. <30,  
4-5гр. <20
7 GLFR (TIR мкм <10  
8 Deformación мкм <60  
9 Arco мкм <40  
10 la contaminación por metales 1 / см2 <3E10  
11 superficie frontal   Pulido  
12 superficie frontal visual:      
Haze, rasguños, manchas, manchas   ninguno
Piel de naranja   ninguno
Las grietas, cráteres   ninguno
13 Frente LPD lateral:     Número de obleas con el valor del parámetro indicado debe ser no menos del 80% de lotes,
<0,12мкм   <100
<0,16мкм   <50
<0,20мкм   <20
<0,30мкм   <10

 

1.5 Coinroll Silicon Wafer

 Spec : 12” , Bare Silicon, Thickness >750um , Notch , Slight scratch and stain that we will process IPA , DI water with Ultra sonic. (PAM171117-SI)

2. Dummy Wafer Definition

Dummy wafer (also called as test wafers) is a Si dummy wafer mainly used for experiment and test and being different from general wafers for product. Accordingly, reclaimed wafers are mostly applied as dummy grade wafers (obleas de prueba).

In each process, film thickness, pressure resistance, reflection index and presence of pinball are measured using dummy Si wafer(test wafer). Also, dummy wafers (test wafers) are used for measurement of pattern size, check of defect and so on in lithography.

láminas monitoras are the bare silicon wafers to be used in the case that an adjustment is required in each production step prior to the actual IC production. For example, when the conditions of each process are set, such as the case of measuring tolerance of device against ( the variation of ) substrate thickness, coinroll silicon wafers for spacer wafers are being used as a substitution of high-standard and high value wafers. Moreover, they are also used for the monitoring purpose in the process together with product wafers. Monitor wafers are necessary wafer materials as important as product prime wafers. They are also called as test wafers together with dummy wafers.

Para obtener más detalles del producto o si ha requerido la especificación, por favor contacte con nosotros en [email protected] o [email protected]

obleas-1 de silicio de grado de prueba

obleas-2 silicio de grado de prueba

obleas-3 de silicio de grado de prueba

obleas-4 silicio de grado de prueba

obleas de silicio-5 grado de prueba

obleas-6 silicio de grado de prueba

obleas-7 silicio de grado de prueba

obleas-8 silicio de grado de prueba

obleas-9 de silicio de grado de prueba

obleas-10 de silicio de grado de prueba

obleas de silicio de grado-11 Prueba

8″ Dummy Grade Silicon Wafer

12″ Dummy Grade Silicon Wafer Thickness 700-730um

12″ Dummy Grade Silicon Wafer Thickness 650-700um

12 "prueba de la categoría oblea de silicio

4″ Test Grade Silicon Wafers with Single Side Polished

12”Dummy wafer

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