Oblea ultrafina de GaAs

Oblea ultrafina de GaAs

PAM-XIAMEN ofrece oblea de GaAs ultrafina con ambos lados pulidos, que es para productos de alta gama en la electrónica de comunicación u optoelectrónica. El espesor general de la oblea de GaAs existente es superior a 350 μm y el espesor objetivo del disco abrasivo ultrafino es de 100 μm. PAM190709-GAAS con tipo n y sin dopar de la siguiente manera:

1. Especificaciones de las obleas ultrafinas de GaAs

Oblea de GaAs ultrafina tipo 1,1 N
Artículo Parámetro Especificaciones Data de muestra Unidad
 1 método de crecimiento VGF VGF
 2 Diámetro 50.6土0.2 50,6士0,2 mm
3 Tipo-Dopante norte/si N/SI
4 Resistividad (0,8-9,0)E-3 (1,78-5,69)E-3 Ohm.cm
5 Movilidad >1500 >1500 cm2/vs
 6 concentración de portadores (0.4-4.0)E18 (0,47-4,00)E18 /cm3
7 EPD ≦5000 ≦5000 /cm2
8 Orientación del cristal (100)2°+/-0,5°apagado (100).2°+/-0,5°apagado grado
hacia-<111>Aa≈0° hacia<111>Aa=0°
9 Orientación plana primaria EJ(0-1-1)+/-0,5° EJ(0-1-1)+0,5° grado
Largo 17+/-1.0 17+/-1.0 mm
10 Orientación plana secundaria EJ(0-11)0,5° EJ(0-11)+0,5° grado
Largo 7+/-1.0 7+/-1.0 mm
11 Espesor 110+/-15 110+/-15 em
12 Superficie lateral frontal Pulido Pulido
13 Superficie trasera Pulido Pulido
14 TELEVISOR N / A N / A em
15 Arco N / A N / A em
16 deformación N / A N / A em

 

Oblea ultrafina de GaAs

Oblea ultrafina de GaAs

1.2 C doped Ultra Thin Gallium Arsenide Wafer
Artículo Parámetro Especificaciones Data de muestra Unidad
 1 método de crecimiento VGF VGF
 2 Diámetro 50.6土0.2 50,6士0,2 mm
3 Tipo-Dopante N/c doped N/c doped
4 Resistividad >=1E7 >=1E7 Ohm.cm
5 Movilidad >3000 >3000 cm2/vs
 6 concentración de portadores /cm3
7 EPD <5000 <5000 /cm2
8 Orientación del cristal (100)+/-0,5 (100)+/-0,5 grado
9 Orientación plana primaria EJ(0-1-1)+/-0,5° EJ(0-1-1)+0,5° grado
Largo 17+/-1.0 17+/-1.0 mm
10 Orientación plana secundaria EJ(0-11)0,5° EJ(0-11)+0,5° grado
Largo 7+/-1.0 7+/-1.0 mm
11 Espesor 110+/-15 110+/-15 em
12 Superficie lateral frontal Pulido Pulido
13 Superficie trasera Pulido Pulido
14 TELEVISOR N / A N / A em
15 Arco N / A N / A em
16 deformación N / A N / A em

 

2. Objetivos de la oblea ultrafina de GaAs

La oblea ultrafina de GaAs tiene como objetivo reducir la resistencia del tubo del interruptor de alimentación, evitar una mala conductividad térmica y eliminar vías largas a través del sustrato para lograr la interconexión de la electricidad con la parte posterior del chip. Además, la oblea ultradelgada de GaAs puede aumentar el calor y simplificar las interconexiones verticales para mejorar la eficiencia del dispositivo.

PowerwayOblea

Para obtener más información, contáctenos por correo electrónico avictorchan@powerwaywafer.comypowerwaymaterial@gmail.com

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