PAM-XIAMEN Ofrece servicios de fundición de obleas junto con placa fotorresistente con fotorresistente y fotomáscara, y proporciona nanolitografía (fotolitografía):
Preparación de la superficie, aplicación de fotorresistente, horneado suave, alineación, exposición, revelado, horneado duro, inspección de revelado, grabado, eliminación de fotorresistente (tira), inspección final.
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Servicios de fundición de obleas
PAM-XIAMEN proporciona servicios de fundición de obleas con tecnología avanzada de proceso de semiconductores y se beneficia de nuestra experiencia en materia de sustratos y expaxy de obleas.
PAM-XIAMEN será la tecnología de obleas y los servicios de fundición más avanzados para empresas sin fábrica, IDM e investigadores.
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Fotorresistente de nanofabricación
PAM-XIAMEN Ofertas placa de resina fotosensible con fotorresistencia
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Máscara de fotos
Ofertas PAM-XIAMENfotomáscaras
Una máscara de foto es un revestimiento delgado de material soportado por un sustrato más grueso de enmascaramiento, y el material de enmascaramiento absorbe la luz en diferentes grados y puede ser modelada con un diseño personalizado. El patrón se utiliza para modular la luz y transferir el patrón a través del proceso de fotolitografía, que es el proceso fundamental utilizado para construir casi todos los dispositivos digitales de hoy en día.
