fabrication wafer

PAM-XIAMEN Offres plaque de résine photosensible avec résine photosensible et photomasque et fournir Nanolithographie (photolithographie): Préparation de la surface, Photorésistance appliquer, cuisson douce, alignement, exposition, développement, dur cuire au four, développer inspecter, Etch, l'enlèvement Photorésistance (bande), l'inspection finale.

  • Nanofabrication

    nanofabrication

    PAM-XIAMEN Offres plaque de résine photosensible avec résine photosensible
    Nous pouvons offrir Nanolithographie (photolithographie): Préparation de la surface, appliquer Photorésistance, cuisson douce, alignement, exposition, développement, dur cuire au four, développer inspecter, Etch, l'enlèvement Photorésistance (bande), l'inspection finale.

  • Photo Mask

    Masque photo

    Offres PAM-XIAMENPhotomasks

    Un masque photographique est un revêtement mince de matériau de masquage supporté par un substrat plus épais, et le matériau de masquage absorbe la lumière à des degrés divers et peut être configurée avec une conception personnalisée. Le modèle est utilisé pour moduler la lumière et transférer le motif à travers le processus de photolithographie qui est le processus fondamental utilisé pour construire la quasi-totalité des appareils numériques d'aujourd'hui.