Cialda di vetro
Siamo uno dei principali fornitori mondiali di wafer di vetro, forniamowafer di vetro sottili e ultrasottilie substrati costituiti da materiali diversi, come ad esBorofloat, silice fusa e quarzo, BK7, calce sodata ecc perMEMS, fibra ottica AWG, pannelli LCD e Substrati OLEDapplicazione. Questi wafer sono tutti standard SEMI comprese le specifiche dimensionali, piatte e di tacca, inoltre offriamo specifiche personalizzate progettate per le vostre esigenze specifiche tra cui segni di allineamento, fori, tasche, profilo del bordo, spessore, planarità, qualità della superficie, pulizia o qualsiasi altro dettaglio critico per la vostra applicazione, inclusi semiconduttori, scienza medica, comunicazioni, laser, infrarossi, elettronica, strumenti di misura, militare e aerospaziale.
1. Specifiche del wafer di vetro
| Parametro | Misurazione |
| Diametro | 2″, 4″, 6″, 8″, 10″ |
| Tolleranza dimensionale | 0.02μm ± |
| Spessore | 0,12 mm, 0,13 mm, 0,2 mm, 0,25 mm, 0,45 mm |
| Tolleranza sullo spessore | 10 um ± |
| Variazione di spessore (TTV) | <0,01 millimetri |
| pianura | 1/10 di onda/pollice |
| Rugosità superficiale (RMS) | <1,5 Nm |
| Gratta e scava | 2 maggio |
| Dimensione delle particelle | <5 micron |
| Bow / Warp | <10 um |
| Per la dimensione personalizzata, contattateci | |
2. Processo di wafer di vetro
Taglio del wafer:i wafer vuoti sono pronti attraverso i fogli spessi che vengono sottoposti a getto d'acqua e i blocchi vengono segati a filo
Bordo terra:il bordo del wafer viene messo a terra cilindrico sulla stazione di molatura dei bordi.
Lappatura del wafer:la cialda viene lappata allo spessore stabilito.
Lucidatura dei wafer:La lucidatura del wafer gli conferisce la superficie specchiata e super piatta necessaria per la fabbricazione.
Pulizia dei wafer:si tratta della rimozione di impurità chimiche e particellari senza alterare o danneggiare la superficie o il substrato del wafer su più linee di pulizia.
Ispezione dei wafer:ispezionare vari livelli di qualità in condizioni di illuminazione adeguate nella camera bianca di classe 100.
Imballaggio dei wafer:Tutti i wafer sono confezionati nei singoli contenitori per wafer.
Trasmittanza del wafer di vetro
3. Trasmittanza del wafer di vetro


Trasmittanza del wafer di vetro
4. Standard di ispezione graffi/scavi per wafer di vetro
Ispezioniamo gli occhiali per eventuali graffi con una luce forte (sorgente luminosa parallela multiangolo) in una stanza buia.
Scopo dell'ispezione: Per determinare se sulla superficie del vetro sono presenti piccoli graffi, corpi estranei, microbolle.
Contenuto dell'ispezione: Verificare la presenza di graffi sottili sulla superficie del vetro
Sorgente luminosa di riferimento: Sorgente luminosa parallela multiangolo
Analisi: L'ispezione per individuare eventuali graffi sottili o corpi estranei sulla superficie del vetro.
Il vetro è un oggetto altamente riflettente e la sorgente luminosa parallela multiangolo può illuminare i graffi sottili in modo chiaro e molto uniforme.
Gratta/Scava: 60/40 significa:
60: larghezza massima del graffio consentita (larghezza 0,06 mm)
40: diametro di scavo massimo consentito (diametro 0,4 mm)
Per ulteriori informazioni sul numero di graffio o scavo, fare riferimento alla tabella seguente:
| Numero di graffio | Massimo consentito Scratch Width (mm) |
Scavare il numero | Massimo consentito Dig or Bubble Diameter (mm) |
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| 120 | 0.12 | 120 | 1.2 | |
| 80 | 0.08 | 80 | 0.8 | |
| 60 | 0.06 | 60 | 0.6 | |
| 50 | 0.05 | 50 | 0.5 | |
| 40 | 0.04 | 40 | 0.4 | |
| 30 | 0.03 | 30 | 0.3 | |
| 20 | 0.02 | 20 | 0.2 | |
| Scopo: qualità della superficie del vetro sui componenti ottici Definizioni: Procedimento: |
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Per ulteriori informazioni potete contattarci via e-mail all'indirizzo[email protected] e [email protected].