I materiali etero epitassiali utilizzati per realizzare il laser a cascata quantistica (QCL) sono principalmente sistemi di materiali GaInAs/AlInAs basati su InP, sistemi di materiali GaAs/AlGaAs basati su GaAs e sistemi di materiali antimonide.PAM-XIAMENpuò fornire film sottile per laser a cascata quantistica basato su InP, come segue:
1. InGaAs/InAlAs/InP per il diodo laser a cascata quantistica
PAM210906 – QCL
N. 1 Materiali eteroepitassiali InP per laser a cascata quantistica con un intervallo spettrale di 4-5μm
strato n. | Materiale | Gruppo | iterazione | Spessore, Å | Livello di doping Si (cm-3) |
27 | In0.53Ga0.47Come | – | – | 2000 | – |
26 | InP | – | – | – | – |
25 | InP | – | – | – | – |
24 | InXXGaXXCome | – | – | – | |
23 | InXXAlXXCome | – | |||
22 | InXXGaXX1As | – | |||
21 | InXXAlXXCome | – | |||
20 | In0.669Ga0.331Come | – | |||
19 | InXXAlXXCome | – | |||
18 | InXXGaXXCome | – | |||
17 | InXXAlXXCome | – | |||
16 | InXXGaXXCome | – | |||
15 | InXXAlXXCome | – | |||
14 | InXXGaXXCome | – | |||
13 | InXXAlXXCome | – | |||
12 | InXXGaXXCome | – | |||
11 | InXXAlXXCome | – | – | ||
10 | InXXGaXXCome | – | – | ||
9 | InXXAlXXCome | – | – | ||
8 | InXXGaXXCome | – | – | ||
7 | InXXAlXXCome | – | |||
6 | InXXGaXXCome | – | |||
5 | InXXAlXXCome | – | |||
4 | InXXGaXXCome | – | |||
3 | InXXAlXXCome | – | |||
2 | InP | – | – | – | – |
1 | Substrato InP | 350um | 3×1017 |
N. 2 Eteroepitassia InGaAs/InAlAs/InP per QCL con un intervallo spettrale di 7-9μm
strato n. | Materiale | Gruppo | iterazione | Spessore, Å | Livello di doping Si (cm-3) |
25 | InXXGaXXCome | – | – | 200 | – |
24 | InXXGaXXCome | – | 1 | – | – |
23 | InP | – | – | – | – |
22 | InXXGaXXCome | – | – | – | |
21 | AlXXInXXCome | – | |||
20 | InXXGaXXCome | – | |||
19 | AlXXInXXCome | – | |||
18 | InXXGaXXCome | – | |||
17 | AlXXInXXCome | – | – | ||
16 | InXXGaXXCome | – | – | ||
15 | AlXXInXXCome | – | – | ||
14 | InXXGaXXCome | – | – | ||
13 | AlXXInXXCome | – | |||
12 | InXXGaXXCome | – | |||
11 | AlXXInXXCome | – | |||
10 | InXXGaXXCome | – | |||
9 | AlXXInXXCome | – | |||
8 | InXXGaXXCome | – | |||
7 | AlXXInXXCome | – | |||
6 | InXXGaXXCome | – | |||
5 | AlXXInXXCome | – | |||
4 | InXXGaXXCome | – | |||
3 | Al0.48In0.52Come | – | |||
2 | InXXGaXXCome | – | – | – | 5×1016 |
1 | Substrato InP | – | 1-3×1017 |
N. 3 Crescita eteroepitassiale InAlAs/InGaAs per QCL con un intervallo spettrale di 7-9μm
strato n. | Materiale | gruppo | iterazione | Spessore, Å | Livello di doping Si (cm-3) |
79 | InXXGaXXCome | – | 1 | – | – |
78 | InP | – | – | 2000 | – |
77 | InP | 3 | – | – | – |
76 | InP | – | – | – | 2×1016 |
75 | AlXXInXXCome | – | – | – | – |
74 | InXXGaXXCome | – | – | ||
73 | AlXXInXXCome | – | – | ||
72 | AlXXInXXCome | – | – | ||
71 | InXXGaXXCome | – | – | ||
70 | AlXXInXXCome | – | – | ||
69 | InXXGaXXCome | – | – | ||
68 | AlXXInXXCome | – | – | ||
67 | InXXGaXXCome | – | – | ||
66 | AlXXInXXCome | – | – | ||
65 | InXXGaXXCome | – | – | ||
64 | AlXXInXXCome | – | – | ||
63 | InXXGaXXCome | – | – | ||
62 | AlXXInXXCome | – | – | ||
61 | InXXGaXXCome | – | – | ||
60 | AlXXInXXCome | – | – | ||
59 | InXXGaXXCome | – | – | ||
58 | AlXXInXXCome | – | – | ||
57 | InXXGaXXCome | – | – | ||
56 | AlXXInXXCome | – | – | ||
55 | InXXGaXXCome | – | – | ||
54 | InXXGaXXCome | – | – | – | – |
53 | AlXXInXXCome | – | – | – | – |
52 | InXXGaXXCome | – | – | – | – |
51 | AlXXInXXCome | – | – | – | |
50 | InXXGaXXCome | – | |||
49 | AlXXInXXCome | – | |||
48 | InXXGaXXCome | – | |||
47 | AlXXInXXCome | – | – | ||
46 | InXXGaXXCome | – | – | ||
45 | AlXXInXXCome | – | – | ||
44 | InXXGaXXCome | – | – | ||
43 | AlXXInXXCome | – | – | ||
42 | InXXGaXXCome | – | – | ||
41 | AlXXInXXCome | – | |||
40 | InXXGaXXCome | – | |||
39 | AlXXInXXCome | – | |||
38 | InXXGaXXCome | – | |||
37 | AlXXInXXCome | – | |||
36 | InXXGaXXCome | – | |||
35 | AlXXInXXCome | – | |||
34 | InXXGaXXCome | – | |||
33 | AlXXInXXCome | – | |||
32 | InXXGaXXCome | – | |||
31 | AlXXInXXCome | – | |||
30 | InXXGaXXCome | – | |||
29 | AlXXInXXCome | – | – | – | |
28 | InXXGaXXCome | – | – | – | – |
27 | AlXXInXXCome | – | – | – | |
26 | InXXGaXXCome | – | – | – | |
25 | AlXXInXXCome | – | – | – | |
24 | InXXGaXXCome | – | 1 | – | – |
23 | AlXXInXXCome | – | – | – | – |
22 | InXXGaXXCome | – | – | ||
21 | AlXXInXXCome | – | – | ||
20 | InXXGaXXCome | – | – | ||
19 | AlXXInXXCome | – | – | ||
18 | InXXGaXXCome | – | – | ||
17 | AlXXInXXCome | – | – | ||
16 | InXXGaXXCome | – | – | ||
15 | AlXXInXXCome | – | – | ||
14 | InXXGaXXCome | – | – | ||
13 | AlXXInXXCome | – | – | ||
12 | InXXGaXXCome | – | – | ||
11 | AlXXInXXCome | – | – | ||
10 | InXXGaXXCome | – | – | ||
9 | AlXXInXXCome | – | – | ||
8 | InXXGaXXCome | – | – | ||
7 | AlXXInXXCome | – | – | ||
6 | InXXGaXXCome | – | – | ||
5 | AlXXInXXCome | – | – | ||
4 | InXXGaXXCome | – | – | ||
3 | Al0.48In0.52Come | – | – | ||
2 | InP | – | – | – | |
1 | Substrato InP | 350 μm | 3×1018 |
2. Perché fabbricare laser QCL basati su materiali etero-epitassiali InGaAs/AlInAs?
Le ragioni per cui si utilizzano materiali eteroepitassiali InGaAs/InAlAs per fabbricare QCL sono principalmente:
1) Il guadagno laser di QCL è proporzionale a (me)– 3/2. Poiché la massa effettiva dell'elettrone me in InGaAs è inferiore alla massa effettiva dell'elettrone in GaAs, il guadagno del sistema di materiale etero epitassiale InGaAs/InAlAs è maggiore di quello del sistema di materiale GaAs/AlGaAs;
2) L'ordine della banda di conduzione del sistema di materiali etero epitassiali InGaAs/InAlAs è relativamente ampio, come mostrato in Figura 1, e il divario energetico tra gli stati ad alta energia delle transizioni laser è ampio, rendendo più facile ottenere il laser a semiconduttore a cascata quantistica. Inoltre, ci sono fattori come la perdita della guida d'onda e l'efficienza di dissipazione del calore.
Fig. 1 Costanti del reticolo (a) e gap di banda (b) del materiale eteroepitassiale InGaAs/InAlAs
3. Che cos'è un laser a cascata quantistica?
QCL è una sorgente luminosa unipolare nella banda del medio infrarosso basata sulla transizione elettronica tra sottobande.
Come funziona un laser a cascata quantistica? Il principio di funzionamento è diverso da quello dei laser a semiconduttore convenzionali. Il suo schema laser consiste nell'utilizzare gli stati elettronici separati causati dall'effetto di confinamento quantistico in uno strato sottile di eterostruttura semiconduttrice perpendicolare allo spessore del livello nanometrico e generare un'inversione del numero di particelle tra questi stati eccitati. La regione attiva del laser è composta da una concatenazione multistadio di pozzi quantici accoppiati (solitamente più di 500 strati) per ottenere un'emissione multifotone dell'iniezione di un singolo elettrone. La caratteristica dell'impronta digitale di QCL è che la lunghezza d'onda operativa non è direttamente correlata al gap di banda dei materiali utilizzati, ma determinata solo dalla spaziatura delle sottobande dei pozzi quantici accoppiati, in modo che la lunghezza d'onda del laser a cascata quantistica possa essere adattata in un ampio intervallo .
Attualmente, le applicazioni del laser a cascata quantistica riguardano principalmente il rilevamento di gas, le contromisure a infrarossi e la comunicazione terahertz.
Per ulteriori informazioni potete contattarci via e-mail all'indirizzovictorchan@powerwaywafer.com e powerwaymaterial@gmail.com.