Wafer laser a cascata quantistica

Wafer laser a cascata quantistica

I materiali etero epitassiali utilizzati per realizzare il laser a cascata quantistica (QCL) sono principalmente sistemi di materiali GaInAs/AlInAs basati su InP, sistemi di materiali GaAs/AlGaAs basati su GaAs e sistemi di materiali antimonide.PAM-XIAMENpuò fornire film sottile per laser a cascata quantistica basato su InP, come segue:

wafer laser a cascata quantistica

1. InGaAs/InAlAs/InP per il diodo laser a cascata quantistica

PAM210906 – QCL

N. 1 Materiali eteroepitassiali InP per laser a cascata quantistica con un intervallo spettrale di 4-5μm

strato n. Materiale Gruppo iterazione Spessore, Å Livello di doping
Si (cm-3)
27 In0.53Ga0.47Come 2000
26 InP
25 InP
24 InXXGaXXCome
23 InXXAlXXCome
22 InXXGaXX1As
21 InXXAlXXCome
20 In0.669Ga0.331Come
19 InXXAlXXCome
18 InXXGaXXCome
17 InXXAlXXCome
16 InXXGaXXCome
15 InXXAlXXCome
14 InXXGaXXCome
13 InXXAlXXCome
12 InXXGaXXCome
11 InXXAlXXCome
10 InXXGaXXCome
9 InXXAlXXCome
8 InXXGaXXCome
7 InXXAlXXCome
6 InXXGaXXCome
5 InXXAlXXCome
4 InXXGaXXCome
3 InXXAlXXCome
2 InP
1 Substrato InP 350um 3×1017

 

N. 2 Eteroepitassia InGaAs/InAlAs/InP per QCL con un intervallo spettrale di 7-9μm

strato n. Materiale Gruppo iterazione Spessore, Å Livello di doping

Si (cm-3)

25 InXXGaXXCome 200
24 InXXGaXXCome 1
23 InP
22 InXXGaXXCome
21 AlXXInXXCome
20 InXXGaXXCome
19 AlXXInXXCome
18 InXXGaXXCome
17 AlXXInXXCome
16 InXXGaXXCome
15 AlXXInXXCome
14 InXXGaXXCome
13 AlXXInXXCome
12 InXXGaXXCome
11 AlXXInXXCome
10 InXXGaXXCome
9 AlXXInXXCome
8 InXXGaXXCome
7 AlXXInXXCome
6 InXXGaXXCome
5 AlXXInXXCome
4 InXXGaXXCome
3 Al0.48In0.52Come
2 InXXGaXXCome 5×1016
1 Substrato InP 1-3×1017

 

N. 3 Crescita eteroepitassiale InAlAs/InGaAs per QCL con un intervallo spettrale di 7-9μm

strato n. Materiale gruppo iterazione Spessore, Å Livello di doping
Si (cm-3)
79 InXXGaXXCome 1
78 InP 2000
77 InP 3
76 InP 2×1016
75 AlXXInXXCome
74 InXXGaXXCome
73 AlXXInXXCome
72 AlXXInXXCome
71 InXXGaXXCome
70 AlXXInXXCome
69 InXXGaXXCome
68 AlXXInXXCome
67 InXXGaXXCome
66 AlXXInXXCome
65 InXXGaXXCome
64 AlXXInXXCome
63 InXXGaXXCome
62 AlXXInXXCome
61 InXXGaXXCome
60 AlXXInXXCome
59 InXXGaXXCome
58 AlXXInXXCome
57 InXXGaXXCome
56 AlXXInXXCome
55 InXXGaXXCome
54 InXXGaXXCome
53 AlXXInXXCome
52 InXXGaXXCome
51 AlXXInXXCome
50 InXXGaXXCome
49 AlXXInXXCome
48 InXXGaXXCome
47 AlXXInXXCome
46 InXXGaXXCome
45 AlXXInXXCome
44 InXXGaXXCome
43 AlXXInXXCome
42 InXXGaXXCome
41 AlXXInXXCome
40 InXXGaXXCome
39 AlXXInXXCome
38 InXXGaXXCome
37 AlXXInXXCome
36 InXXGaXXCome
35 AlXXInXXCome
34 InXXGaXXCome
33 AlXXInXXCome
32 InXXGaXXCome
31 AlXXInXXCome
30 InXXGaXXCome
29 AlXXInXXCome
28 InXXGaXXCome
27 AlXXInXXCome
26 InXXGaXXCome
25 AlXXInXXCome
24 InXXGaXXCome 1
23 AlXXInXXCome
22 InXXGaXXCome
21 AlXXInXXCome
20 InXXGaXXCome
19 AlXXInXXCome
18 InXXGaXXCome
17 AlXXInXXCome
16 InXXGaXXCome
15 AlXXInXXCome
14 InXXGaXXCome
13 AlXXInXXCome
12 InXXGaXXCome
11 AlXXInXXCome
10 InXXGaXXCome
9 AlXXInXXCome
8 InXXGaXXCome
7 AlXXInXXCome
6 InXXGaXXCome
5 AlXXInXXCome
4 InXXGaXXCome
3 Al0.48In0.52Come
2 InP
1 Substrato InP 350 μm 3×1018

 

2. Perché fabbricare laser QCL basati su materiali etero-epitassiali InGaAs/AlInAs?

Le ragioni per cui si utilizzano materiali eteroepitassiali InGaAs/InAlAs per fabbricare QCL sono principalmente:

1) Il guadagno laser di QCL è proporzionale a (me)– 3/2. Poiché la massa effettiva dell'elettrone me in InGaAs è inferiore alla massa effettiva dell'elettrone in GaAs, il guadagno del sistema di materiale etero epitassiale InGaAs/InAlAs è maggiore di quello del sistema di materiale GaAs/AlGaAs;

2) L'ordine della banda di conduzione del sistema di materiali etero epitassiali InGaAs/InAlAs è relativamente ampio, come mostrato in Figura 1, e il divario energetico tra gli stati ad alta energia delle transizioni laser è ampio, rendendo più facile ottenere il laser a semiconduttore a cascata quantistica. Inoltre, ci sono fattori come la perdita della guida d'onda e l'efficienza di dissipazione del calore.

Costanti del reticolo (a) e gap di banda (b) del materiale eteroepitassiale InGaAs/InAlAs

Fig. 1 Costanti del reticolo (a) e gap di banda (b) del materiale eteroepitassiale InGaAs/InAlAs

3. Che cos'è un laser a cascata quantistica?

QCL è una sorgente luminosa unipolare nella banda del medio infrarosso basata sulla transizione elettronica tra sottobande.

Come funziona un laser a cascata quantistica? Il principio di funzionamento è diverso da quello dei laser a semiconduttore convenzionali. Il suo schema laser consiste nell'utilizzare gli stati elettronici separati causati dall'effetto di confinamento quantistico in uno strato sottile di eterostruttura semiconduttrice perpendicolare allo spessore del livello nanometrico e generare un'inversione del numero di particelle tra questi stati eccitati. La regione attiva del laser è composta da una concatenazione multistadio di pozzi quantici accoppiati (solitamente più di 500 strati) per ottenere un'emissione multifotone dell'iniezione di un singolo elettrone. La caratteristica dell'impronta digitale di QCL è che la lunghezza d'onda operativa non è direttamente correlata al gap di banda dei materiali utilizzati, ma determinata solo dalla spaziatura delle sottobande dei pozzi quantici accoppiati, in modo che la lunghezza d'onda del laser a cascata quantistica possa essere adattata in un ampio intervallo .

Attualmente, le applicazioni del laser a cascata quantistica riguardano principalmente il rilevamento di gas, le contromisure a infrarossi e la comunicazione terahertz.

powerwaywafer

Per ulteriori informazioni potete contattarci via e-mail all'indirizzovictorchan@powerwaywafer.com e powerwaymaterial@gmail.com.

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