Pam-XiamenはGAAS LED Waferを提供しています

Pam-XiamenはGAAS LED Waferを提供しています

Pam-Xiamenは、GAAS基板上のAlgainp LED(赤LED)スタックであるGAAS LEDエピタキシーウェーハを提供しています。 Xiamen Powerway Advanced Material Co.、Ltd。、の大手サプライヤーGaAsのエピウェーハまた、他の関連製品とサービスは、2010年に大量生産中のサイズ2インチと4インチの新しい可用性を発表しました。この新しい製品は、Pam-Xiamenの製品ラインに自然に追加されています。

LEDエピタキシー

シャカ博士は次のように述べています。「赤いLEDに対してより良く、より信頼性の高い多くの人を含む多くの人を含むGAAS LED EPI WAECHをお客様に提供できることを嬉しく思います。これには、LEDチップ産業用のDBR層、Mocvdの620nmから780nmの波長範囲を含む波長範囲が含まれています。緑と黄色は、ヘテロ構造放出光を形成します。また、ダイオードレーザーを作成します。そして、「当社の顧客は、正方形の基板上の高度なトランジスタを開発するときに予想されるデバイスの収量の増加から利益を得ることができます。GAAS基質上のLEDエピタキシーは、継続的な取り組みの製品によって自然です。現在、より信頼できる製品の開発に専念しています。」

Pam-Xiamenの改善ALGAINP LED構造製品ラインは、ネイティブ大学と実験センターからの強力な技術サポートの恩恵を受けています。

1。610〜630nm赤色LED逆極性構造

No.1 Gaasは赤信号のためにウェーハをリードしました

材料 厚さ(nm)
p-contact ギャップ:c 104
Pウィンドウ ギャップ:mg
p-spreading algainp:mg
p-クラッディング alinp:mg 297
スペーサー AlInP
活性領域 AlGaInP
nクラッディング alinp:si
n-spreading AL0.6GAINP:SI
? ingap:si
n-contact GAAS:SI 80
エッチストップ層 ingap:si
バッファー GAAS:SI
基板 GAAS:SI 350000

 

No.2 Gaas Red LEDエピタキシーウェーハ

構造 厚さ(nm)
C-GaP 104
Mg-GaP
mg-algainp層 42
Mg-AlInP
AlInP 63
MQW、algainp
SI-AL0.6GAINP 296
Si-GaInP
si-gaas 8.8
Si-GaInP
Si-Gaasバッファー
GaAs基板 230

 

電気光学特性(LF– = 20 mA、22 ℃)

モデル名 WDコード WLD(λD、nm) VF(VF、V) 逆電流(IR、μa)VR = -10V
PL065RL 630d 630-635 1.90-2.20 0-1
635d 635-640
640d 640-645

 

電気光学特性@20Deg。 20ma)
商品番号 WLD(nm) VF(V) IR(ua)@vr = -10 4
PAM630U 630-640 1.8 <VF <2.2 0 <ir <1 25-38

 

放射フラックス(LF– = 20 mA、22 ℃)

放射フラックス(LOP、MCD)
コー​​ド lu LV LW LX ly LZ LO L1 L2 L3 L4
LOP(MCD) 20-25 21-26 22-27 23-28 24-29 25-30 26-31 27-32 28-33 29-34 30-35

  

上記は逆極性構造であり、GAAS LEDウェーハの正の構造を供給することもできます。詳細な構造は、で私たちに相談してください[email protected].

逆極性赤色光とLEDの正の赤色光の違いは、赤いチップの正の極が下にあり、負の電極が上にあることです。したがって、正のLEDウェーハと逆極性LEDウェーハの構造は異なります。

LEDエピタキシーウェーハ製造プロセスの後、GAASベースのLEDのエピタキシャルウェーハがチップで作られ、従来の赤と黄色のLEDチップは、正の電極を上にし、負の電極を下げた状態でブラケットにはんだ付けされます。後に発達した赤と黄色のLEDチップは負の電極を上方にし、逆極性チップと呼ばれるブラケットの逆伝統的な方向に正の電極が取り付けられます。赤と黄色の逆極性LEDチップの材料とプロセスは、従来の赤と黄色のLEDチップの材料とは異なります。逆極性LEDチップの発光効率は、従来の極性LEDチップの効率よりも高くなっています。現在、逆極性チップは赤と黄色のLEDチップの主流になりました。

発光効率の違いに加えて、使用方法と設置されたランプビーズの仕様は同じです。

2。GAAS材料について

ガリウムアルセニドは、マイクロ波周波数統合回路、モノリシックマイクロ波積分回路、赤外線発光ダイオード、レーザーダイオード、太陽電池、光学窓などのデバイスの製造に使用されます。

GAASは、インジウムガリウムヒ素、アルセニドアルミニウムなど、他のIII-V半導体のエピタキシャル成長のための基質材料としてよく使用されます。

ガリウムアルセニドの一部の電子特性は、シリコンの特性よりも優れています。飽和電子速度が高く、電子移動度が高く、250 GHzを超える周波数でアルセニドトランジスタが機能することができます。 GAASデバイスは、より広いエネルギーバンドギャップのために過熱に比較的鈍感であり、特に高周波数では、シリコンデバイスよりも電子回路で電子回路でノイズ(電気信号の乱れ)が少なくなる傾向があります。これは、キャリアの移動度が高く、抵抗力の低い寄生虫の結果です。これらの優れたプロパティは、携帯電話、衛星通信、マイクロ波ポイントツーポイントリンク、より高い周波数レーダーシステムでGAAS回路を使用するための説得力のある理由です。また、マイクロ波の生成のためにGunnダイオードの製造にも使用されます。

GAASのもう1つの利点は、直接的なバンドギャップがあることです。つまり、光を効率的に吸収して放出するために使用できることを意味します。シリコンには間接的なバンドギャップがあるため、光を放出するのは比較的貧弱です。

放射線損傷に対する耐性を持つ幅広い直接バンドギャップ材料として、GAASは宇宙電子機器と高出力用途の光学窓にとって優れた材料です。

幅広いバンドギャップのため、純粋なGAAは非常に抵抗があります。高い誘電率と組み合わせると、このプロパティはGAASを積分回路の非常に優れた基質にし、SIとは異なり、デバイスと回路の間の自然な分離を提供します。これにより、モノリシックマイクロ波統合回路、MMICにとって理想的な材料となり、GAAの単一のスライスでアクティブで必須のパッシブコンポーネントを容易に生成できます。

3。アルセニドGallium LED EPI Waferの標準

以下の基準は、リンのガリウム、ガリウムアルセニド、アルミニウムインジウムリン、およびアルミニウムインディウム窒素エピタキシャルウェーハ剤に適用されます。

3.1 GAAS LEDエピタキシャルウェーハ表面品質

アルゲイン / GAAS LEDエピタキシーの表面品質の主な影響因子は表面欠陥であり、欠陥の最大許容値は次の要件を満たす必要があります。

表面欠陥の最大許容値

アイテム 最大許容値
長さは半径と3つのストリップ/cm未満です2.
直径1mm以下の点欠陥 25/cm2
直径1mm以上の点欠陥 5/cm2
注:この表の値は、金属有機化学蒸気堆積によって成長した非表面の粗いエピタキシャルウェーハに適用できます。

 

3.2 GAAS基板上のアルゲインのエピエーハの物理的構造パラメーター

Algainp / Gaas Quantum Wellを使用したMicro LEDエピタキシーウェーハの物理的パラメーターは、テーブルの要件と一致する必要があります。

アイテム ユニット
最小 最大
波長 光蛍光ピーク発光波長 NM バツ バツ
蛍光ピークが放出されるときの波長、ウェーハの標準偏差 バツ バツ
Pタイプ層 厚さ ええと バツ バツ
P型電極接触層ドーピング濃度 cm-3 バツ バツ
アクティブレイヤー 厚さ ええと バツ バツ
Nタイプのレイヤー N型電極接触層ドーピング濃度 cm-3 バツ バツ
厚さ ええと バツ バツ
注:「X」は特定の値を表します。

 

3.3 ALGAINP EPI層を備えたLEDエピタキシーウェーハの主なパラメーター

ガリウムアルセニドLEDエピタキシーウェーハの主なパラメーターは、次の表のパラメーターを満たす必要があります。

パラメータ ユニット
最小 最大
光学パラメーター 前方電圧 V バツ バツ
逆電圧 V バツ
逆電流 uA バツ
ピーク放射波長 NM バツ バツ
スペクトル分布帯域幅 NM バツ
支配的な波長 NM バツ バツ
放射電力 mWの バツ
放射電力保持率 % バツ バツ
ウェーハ標準偏差 前方電圧 バツ
ピーク放射波長 バツ
支配的な波長 バツ
静電放電感度 静電放電感度 バツ

 

4。赤色LED EPI-WAFERのQ&A

Q1:Red LED EpiWaferを探しています。そのような製品を供給していますか?

はいの場合、どの波長、ウェーハサイズですか?

A: どういたしまして、あなたのセンターが私たちに注文したことがあります、そして私たちも受け取ったことがあります

毎年世界の大学から何百もの注文があります。

そして今、以下を参照してください:4/2” Red LED EPI-WAFERS 620 +/- 5NM

Q2:波長に関して、利用可能な範囲は何ですか?

最後に、サスブレート材料は何ですか?データシートはありますか?

A: 2「サイズ、波長:620 +/- 5nm。基質材料はGAASです。

Q3:質問がありますが、620 nmが利用可能な唯一の波長であることを理解しています。

620NMが利用可能で、445-475NMおよび510-530NMも利用できます。

Q4:1つのエピタキシャルウェーハの引用をお願いします。 w/l:631nm - 636nm、λpは通常634nm-635nmです。 IR w/Lの2番目のピークとNOのピークを測定および保証する方法をアドバイスしていただけますか?また、私たちはあなたの側と私たちの側の間にどのように相関していますか?

Red LED Waferについては理解してください。STV自体は非常に小さく、通常は+/- 2Nm以内です。633-635NMを制御できます。

Q5:私はあなたに1つの質問があります。 Gasealp LED Waferで適切に接触する場合、このデバイスのターンオン電圧は何ですか?ここでは、GAAS基板を接地として使用して接触しており、電圧オンのターンは約9Vです。

通常、INALGAP LED EPI Waferに基づくLEDデバイスのターンオン電圧は1.9-2.3Vです。

Q6:私は学生のために研究室を準備する過程にあります。私たちの計画は、GAAS基質にメサをエッチングし、上部に1つの接触を配置し、GAAS基板と密接な接触しているチャックに地上接触を配置します。この構成で照明を照らすことができると思いますか、それともNレイヤーに直接連絡する必要がありますか?

はい、Gaas LEDエピタキシーウェーハはConfigurarionで照明をすることができます。

Q7:スタックの構成について尋ねていました。図では、スタックの最上層がギャップです。私のQuiestionは次のとおりです。このギャップの上部層の上にコーティングされたパッシブ化酸化物または窒化物層はありますか?時々、メーカーはデバイスウェーハを保護するためにこのコーティングを装着しました。

GAAS LEDウェーハのギャップ層の上部にコーティングされた層はありません。

Q8:逆極性ウェーハのPタイプの接触について最後に質問することはできますか? Mgドープギャップ(厚さ1570 nm領域)は、P型接触領域として使用できますか?厚さ100 nmのCギャップ領域を接触領域として使用できるかどうかはわかりません(エッチングの深さを制御するのは本当に難しいでしょう)。

逆極性ウェーハのITOプロセスが必要な場合、それは実行可能ではありません。ゴールドプロセスである場合、それは問題ありません。

Q9:逆極性ウェーハのエッチング停止層について質問することはできますか? GAAS基質のウェットエッチング後、N GAAS接触層を露出するためにエッチングストップレイヤーを取り外すにはどうすればよいですか?

1/湿ったエッチングによるGAASに損傷を与えることなく獲得することは困難です。

2/使用する前に、逆極性のある赤いLEDウェーハをxx分、または特定の混合物で洗浄することができます(210120)。詳細はまでお問い合わせください[email protected].

Q10:ウエハーの塊をウェーハの上部(ギャップ)とウェーハの側面に置くだけで、ウェーハから赤信号を出すことができるかどうかを確認しようとしていましたが、赤い光が出てくるのを見ることができませんでした。レッドライトが出てくることを確認する方法を提案していただけますか?

測定するために赤いLEDウェーハを小さな断片にカットする方が良いでしょうし、電流を少し増やすことができます。ピース全体を測定するのはより困難です

Q11:はい、LED逆極性ウェーハを小さなピースに切り取り、1 Vから10 Vの範囲を適用しました。電流が流れるのを見ましたが、光が出てくることができませんでした。これは正常ですか?

20〜50 MAの電流では、逆極性エピタキシャルウェーハ自体が明るくなり、少し弱く見えますが、光を放出しないことは不可能です

GAAS基板上のLEDエピタキシーウェーハの詳細については、参照してください。

AlGaInPエピウェーハ

AlGaInP LED チップの分類

詳細については、メールでお問い合わせください[email protected][email protected]


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