フォトリソグラフィーマスク

フォトリソグラフィーマスク

フォトリソグラフィークロームマスクは販売中です。 基板の材質によって、石英マスク、ソーダマスクなど(レリーフプレート、フィルムを含む)などに分けることができます。 フォトマスク 石英基板とソーダライムは、大学や研究機関で一般的に使用されているリソグラフィマスクです。 PAM-XIAMENの仕様の詳細については、以下を参照してください。

フォトリソグラフィーマスク

No.1クロームマスクブランクPAM191218-MASKS

マスク基板の仕様

材料 ソーダライム
寸法 3″ x3″
厚さ 0.060インチ±0.004インチ
扁平 ≤15u
欠陥 なし
クロム金属化仕様
クロム膜厚 1100A±10%
530nmでの光学密度 2.8±0.2
マスクプレートグレード 印刷
ピンホール > 5umなし、1-5u 0.3 /平方インチ
レジスト仕様
抵抗 AZ1500
厚さに抵抗する 5300A±150A
欠陥 なし

 

マーク:
クロームマスクプレートはフォトレジストでコーティングされています。 これらのマスクプレートは、レーザーリソグラフィーとウェット/ドライエッチングを使用して、0.5ミクロンまでの最小の特徴を持つパターンを作成するために使用されます。

No.2フォトリソグラフィーマスクPAM190702-MASKL

材料 5インチリソグラフィマスク
要件 ステッパー用フォトマスク(型式:5009)

リソグラフィーマシンのモデル:ASML PA5000 / 50

スケール:5:1

グラフィック品質インデックスの要件
グラフィックの精度 100パーセント
CD 2um
CDトレランス <0.5um
欠陥密度 ≤1個
彫刻公差 <0.5um

 

No.3クロームでパターン化されたフォトリソグラフィーマスクPAM190621-MASKL

No. 3-1 フォトリソグラフィーマスクの設計と印刷4インチ
マスクサイズ:4” x 4”正方形
マスク素材:クォーツ
パターン素材:クローム

高電子移動度トランジスタ(HEMT)製造プロセスのパターン設計(6パターン)、および特定の接触抵抗分析のための伝送ライン測定(TLM)(2パターン)を含むサービス

1つのマスクに4つのパターンデザイン(それぞれマスクの1/4の領域)–合計8つのデザイン

No.3-2 フォトリソグラフィーマスクの設計と印刷5インチ
マスクサイズ:5” x 5”正方形
マスク素材:クォーツ
パターン素材:クローム

パターン化されたサファイア基板(PSS)のパターンデザインを含めるサービス

1つのマスクに4つのパターンデザイン(それぞれマスクの1/4の領域)

ご注意ください: 上記の2つの項目の技術パラメータは、次の要件を満たしています。

マスクサイズ(mm) 最小の縫い目と線幅 縫い目の精度 マーク
101.6 * 101.6 * 2.3 3um≤W≤5um ±0.3um クォーツ素材
127.0 * 127.0 * 2.3 3um≤W≤5um ±0.3um クォーツ素材
101.6 * 101.6 * 3.0 3um≤W≤5um ±0.3um クォーツ素材
127.0 * 127.0 * 3.0 3um≤W≤5um ±0.3um クォーツ素材

 

No.4フェーズマスクPAM190717-MASKQ
ピッチ:1095.8nm
サイズ:25mm x 3mm
照明波長248nm
基板サイズ:35 * 17.2mm
位相マスクの厚さ:1/4インチ(6.35mm)

No.5ユニフォームフェーズマスクPAM190821-MASKJ
1575nmブラッググレーティング用の均一位相マスク
グレーティング周期:1088 nm
グレーティング周期の精度と均一性:+/- 0.01 nm
格子サイズ:10 mm x 10 mm
基板サイズ:30 mm x 25 mm
248nmの無偏光照明用に最適化
0.注文:<3%

詳細については、メールでお問い合わせください。 [email protected][email protected].

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