フォトマスク Lサイズ
PAM XIAMENは大型フォトマスクを提供しています。
クロム板精度（標準サイズ：430mm×430mm）
| 精度/グレード | 最大精度 | 高精度 | 中程度の精度 | 一般的な精度 |
| min.line/スペース幅 | 0.75μm/0.75μm | 5μm/5μm | 10μm/10μm | 20μm/20μm |
| CDコントロール | ±0.15μm（QZ） | ±0.5μm | ±1.0μm | ±2.0μm |
| 総ピッチ精度 | ±0.5μm（QZ） | ±1.0μm | ±2.0μm | ±2.0μm |
| 登録の正確性 | ±0.5μm（QZ） | ±1.0μm | ±2.0μm | ±3.0μm |
| オーバーレイの精度 | ±0.5μm（QZ） | ±1.0μm | ±2.0μm | ±3.0μm |
| 直交 | ±0.75μrad | ±2.0μrad | ±3.0μrad | ±4.0μrad |
クロム板材（フォトマスクブランク板）
| 材料 | Sodalimeglass、Quartz | |||
| マックス。 サイズ | 850mm*1400mm | |||
| 通常のサイズ | 420mm×520mm、520mm×610mm、520mm×800mm、700mm×800mm、 800mm*920mm、800mm*960mm、850mm*1200mm、850mm*1400mm |
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| 厚さ | 2.3±0.2mm、3.0±0.2mm、4.8±0.2mm、7.8±0.2mm、 5.0±0.2mm(QZ)、8.0±0.2mm(QZ)、10.0±0.2mm(QZ) |
|||
| フィルムタイプ | 低反射回転式 | |||
| 光学密度 （λ= 450nm） |
プレート間3.0±0.3インチプレート±0.3 | |||
| 反射率 （λ= 436nm） |
Plates10±5％Inplate±2％ | |||
主なアプリケーション領域：
1、LCD、TFT、CF、タッチパネル、OLED、PDP、その他のフラットパネルディスプレイ産業
2、HDI、FPC、その他の PCB 産業。
詳細については、当社の Web サイトをご覧ください。https://www.powerwaywafer.com,
にメールを送ってください[email protected]と[email protected]
1990 年に設立された Xiamen Powerway Advanced Materials Co., Ltd (PAM-XIAMEN) は、中国の半導体材料の大手メーカーです。PAM-XIAMEN は、高度な結晶成長およびエピタキシー技術、製造プロセス、加工基板および半導体デバイスを開発しています。PAM-XIAMEN の技術により、半導体ウェーハの高性能化と低コストの製造が可能になります。
私たちの目標は、どんなに小さな注文やどんなに難しい質問であっても、お客様のすべての要件を満たすことです。当社の適格な製品と満足のいくサービスを通じて、すべての顧客の持続的かつ収益性の高い成長を維持すること。
