サファイア上の薄い単結晶のGe膜の実現とキャラクタリゼーション

サファイア上の薄い単結晶のGe膜の実現とキャラクタリゼーション

我々は成功した生産と薄い特徴づけてきました 単結晶 サファイア基板(GEOS)上のGe薄膜。 そのようなGEOSは、オファーにのみ薄い(<2ミクロン)Ge層はデバイスの動作のために必要とされる用途のためにバルクゲルマニウム基板に費用対効果の高い代替物をテンプレート。 GEOSテンプレートは、スマートカットを使用して実現されていますTM技術。 直径100mm GEOS テンプレートを製造し、比較するために特徴付けられています Geの バルクGeを持つ薄膜特性。 表面欠陥検査、SEM、AFM、欠陥エッチング、XRDおよびラマン分光法全て行いました。 使用される各特徴付け技術について得られた結果は、転送薄いGe膜の材料特性は非常に近いバルクGeの基準のものにあったことを強調しています。 GEOSは、典型的なデバイスの実現に遭遇する条件の下で、テンプレートの安定性を実証するために、テンプレート上にエピタキシャルのAlGaInP / GaInPから/ AlGaInP系のダブルヘテロ構造を成長させました。 このエピタキシャル構造の光ルミネッセンス挙動はバルクGe基板上に成長させた同様の構造のものとほぼ同じでした。 GEOSテンプレートは、従って、操作薄膜構造と互換性のあるデバイスの製造におけるバルクゲルマニウム基板に実行可能な代替を提供します。

出典:IOPscience

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