SICアプリケーション
- 説明
製品の説明
SiCのアプリケーション
SiCの物理的および電子的特性により、シリコンカーバイド based device are well suitable for short wavelength optoelectronic, high temperature, radiation resistant, and high-power/high-frequency electronic devices,compared with Si and GaAs based device.
III-V Nitride Deposition
GaN, AlxGa1-xN and InyGa1-yN epitaxial layers on up to SiC substrate or sapphire substrate.
For PAM-XIAMEN Gallium Nitride Epitaxy on Sapphire Templates,please review:
https://www.powerwaywafer.com/GaN-Templates.html
For Gallium Nitride Epitaxy on SiC Templates,which are used to fabrication of blue light emitting diodes and and nearly solar blind UV photodetectors
Optoelectronic Devices
SiC based devices are:
low lattice mismatch forIII-nitride epitaxial layers
high thermal conductivity
monitoring of combustion processes
all sorts of UV-detection
Due to SiC material properties, SiC-based electronics and devices can work in very hostile environment,which can work under high temperature, high power and high radiation conditions
High Power Devices
Due to SiC’s properties:
Wide Energy Bandgap (4H-SiC: 3.26eV, 6H-SiC: 3.03eV)
High electrical breakdown field(4H-SiC: 2-4*108 V/m, 6H-SiC: 2-4*108 V/m )
High saturation drift velocity(4H-SiC:2.0*105 m/s, 6H-SiC:2.0*105 m/s)
High thermal conductivity(4H-SiC: 490 W/mK, 6H-SiC: 490 W/mK )
Which are used for fabrication of very high-voltage, high-power devices such as diodes, power transitors, and high power microwave devices.Compared to conventional Si-devices SiC-based power device offers:
faster switching speed
higher voltages
下の寄生抵抗
小さいサイズ
高温機能により必要な冷却が少ない
SiCはGaAsまたはSiよりも熱伝導率が高く、SiCデバイスは理論的にはGaAsまたはSiよりも高い電力密度で動作できます。 広いバンドギャップと高い臨界電界を組み合わせたより高い熱伝導率は、高出力が重要な望ましいデバイス機能である場合、SiC半導体に利点を与えます。
現在、炭化ケイ素(SiC)はハイパワーMMICに広く使用されています
アプリケーション。 SiCはまたのための基質として使用されます エピタキシャル
成長 より高出力のMMICデバイスのためのGaNの使用
高温デバイス
SiCは熱伝導率が高いため、他の半導体材料よりも熱を素早く伝導します。
これにより、SiCデバイスは非常に高い電力レベルで動作し、発生する大量の過剰な熱を放散することができます。
高周波パワーデバイス
SiCベースのマイクロ波エレクトロニクスは、無線通信とレーダーに使用されます
SiC基板の詳細なアプリケーションについては、炭化ケイ素の詳細アプリケーション .