シリコンカーバイドList_Wafer list_Compound半導体ウエハ

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フロートゾーン単結晶シリコン


PAM-Xiamen は、フロートゾーン法によって得られるフロートゾーンシリコンウェーハを提供できます。単結晶シリコンロッドは、フロートゾーン成長によって得られ、単結晶シリコンロッドをフロートゾーンシリコンウェーハと呼ばれるシリコンウェーハに加工します。浮遊帯域シリコンプロセス中、帯域溶融されたシリコンウェーハは石英坩堝と接触していないため、シリコン原料は浮遊状態にある。これにより、シリコンの浮遊帯域溶融のプロセス中に汚染が少なくなります。炭素含有量と酸素含有量が低く、不純物が少なく、抵抗率が高くなります。パワーデバイスや特定の高電圧電子デバイスの製造に適しています。
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テストウェーハモニターウェーハダミーウェハ


PAM-XIAMENはダミーウェーハメーカーとして、生産工程初期の安全性を向上させるために生産装置に使用され、納期確認や工程形状評価に使用されるシリコーンダミーウェーハ/テストウェーハ/モニターウェーハを提供しています。ダミーのシリコンウェーハは実験やテストに使用されることが多いため、ほとんどの場合、そのサイズと厚さが重要な要素となります。 100mm、150mm、200mm、300mmのダミーウェーハをご用意しております。
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ナノファブリケーションフォトレジスト


PAM-厦門にフォトレジストをフォトレジストプレートをゲットできます！
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フォトマスク


PAM-厦門オファーフォトマスク

フォトマスクは、より厚い基板によって支持マスキング材の薄いコーティングであり、マスキング材料は、様々な程度に光を吸収し、カスタム設計でパターン化することができます。パターンは、光を変調し、ほぼすべての今日のデジタル機器のを構築するために使用される基本的なプロセスであるフォトリソグラフィのプロセスを経てパターンを転写するために使用されます。
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CdZnTeの（CZT）ウェハー


テルル化カドミウム亜鉛（CdZnTeの又はCZT）が効果的に、それは主に赤外線薄膜エピタキシャル基板で使用され、X線検出器とガンマ線たCdZnTe検出器電子する放射線を変換することができる新しい半導体、です。
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ゲルマニウム（ゲルマニウム）単結晶とウェーハ


PAM-XIAMEN は、2 インチ、3 インチ、4 インチ、および 6 インチのゲルマニウムウエハを提供しています。これは、VGF / LEC によって成長した Ge ウエハの略です。低濃度にドープされた P 型および N 型のゲルマニウムウエハーは、ホール効果の実験にも使用できます。室温では、結晶ゲルマニウムはもろく、可塑性がほとんどありません。ゲルマニウムには半導体特性があります。高純度ゲルマニウムに三価元素（インジウム、ガリウム、ボロンなど）をドープしたP型ゲルマニウム半導体。 5価元素（アンチモン、砒素、リンなど）をドープしてN型ゲルマニウム半導体を得る。ゲルマニウムは、高い電子移動度や高い正孔移動度など、優れた半導体特性を備えています。

sales@powerwaywafer.com tech@powerwaywafer.com

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フロートゾーン単結晶シリコン


PAM-Xiamen は、フロートゾーン法によって得られるフロートゾーンシリコンウェーハを提供できます。単結晶シリコンロッドは、フロートゾーン成長によって得られ、単結晶シリコンロッドをフロートゾーンシリコンウェーハと呼ばれるシリコンウェーハに加工します。浮遊帯域シリコンプロセス中、帯域溶融されたシリコンウェーハは石英坩堝と接触していないため、シリコン原料は浮遊状態にある。これにより、シリコンの浮遊帯域溶融のプロセス中に汚染が少なくなります。炭素含有量と酸素含有量が低く、不純物が少なく、抵抗率が高くなります。パワーデバイスや特定の高電圧電子デバイスの製造に適しています。
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テストウェーハモニターウェーハダミーウェハ


PAM-XIAMENはダミーウェーハメーカーとして、生産工程初期の安全性を向上させるために生産装置に使用され、納期確認や工程形状評価に使用されるシリコーンダミーウェーハ/テストウェーハ/モニターウェーハを提供しています。ダミーのシリコンウェーハは実験やテストに使用されることが多いため、ほとんどの場合、そのサイズと厚さが重要な要素となります。 100mm、150mm、200mm、300mmのダミーウェーハをご用意しております。
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ナノファブリケーションフォトレジスト


PAM-厦門にフォトレジストをフォトレジストプレートをゲットできます！
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フォトマスク


PAM-厦門オファーフォトマスク

フォトマスクは、より厚い基板によって支持マスキング材の薄いコーティングであり、マスキング材料は、様々な程度に光を吸収し、カスタム設計でパターン化することができます。パターンは、光を変調し、ほぼすべての今日のデジタル機器のを構築するために使用される基本的なプロセスであるフォトリソグラフィのプロセスを経てパターンを転写するために使用されます。
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CdZnTeの（CZT）ウェハー


テルル化カドミウム亜鉛（CdZnTeの又はCZT）が効果的に、それは主に赤外線薄膜エピタキシャル基板で使用され、X線検出器とガンマ線たCdZnTe検出器電子する放射線を変換することができる新しい半導体、です。
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ゲルマニウム（ゲルマニウム）単結晶とウェーハ


PAM-XIAMEN は、2 インチ、3 インチ、4 インチ、および 6 インチのゲルマニウムウエハを提供しています。これは、VGF / LEC によって成長した Ge ウエハの略です。低濃度にドープされた P 型および N 型のゲルマニウムウエハーは、ホール効果の実験にも使用できます。室温では、結晶ゲルマニウムはもろく、可塑性がほとんどありません。ゲルマニウムには半導体特性があります。高純度ゲルマニウムに三価元素（インジウム、ガリウム、ボロンなど）をドープしたP型ゲルマニウム半導体。 5価元素（アンチモン、砒素、リンなど）をドープしてN型ゲルマニウム半導体を得る。ゲルマニウムは、高い電子移動度や高い正孔移動度など、優れた半導体特性を備えています。