タグ - InAlN 薄膜

ZnO上に成長させたGaN/InGaN P-I-N構造のケミカルリフトオフと直接ウェーハ接合

ハイライト • ZnO/サファイア テンプレート上での p-GaN/i-InGaN/n-GaN (PIN) 太陽電池の MOCVD 成長。 •ZnOのバックエッチングがないことを示す詳細な構造特性評価。 • フロートガラス上の構造の化学的リフトオフとウェーハ接着。 •ガラス上のデバイスの構造特性評価。要約 p-GaN/i-InGaN/n-GaN (PIN) 構造は、ZnO バッファー c サファイア基板上に、有機金属気相エピタキシーによってエピタキシャル成長されました。

自立型GaN基板上にプラズマ支援分子線エピタキシーによって成長させたN極性InAlN薄膜におけるインジウム取り込みダイナミクス

ハイライト •N 極性 InAlN 薄膜を分子線エピタキシーによって GaN 基板上に成長させました。 •高温では表面形態が準 3D からステップフローに移行しました。・高温でインジウムフラックスが増加すると、インジウムの飽和が観察されました。 •アルミニウムフラックスの増加により、インジウムの取り込み効率が向上しました。 • 0.19 nm rms 粗さの N 極性 InAlN 膜が実証されました。抽象的な N 極性 InAlN 薄層...

がカートに追加されました。
チェックアウト