ZnOウェーハ
PAM XIAMENでは、高圧水熱法により成長させたアンドープまたはGaドープの単結晶ZnOウエハ基板を提供しています。ZnOウエハには主に六方晶系ウルツ鉱と立方晶系閃亜鉛鉱の2つの構造があり、当社が提供したのは六方晶系ウルツ鉱です。
1.ZnOウェーハの特性:
1.1 ZnO 単結晶基板の一般特性
| 純度重量% | > 99.99 |
| 不純物: wt% | Mg: < .0005 Al: < .0030 Si: 0.0030 Ti: .0010 Cu: < .0030 Fe: < 0.005 Ca: < .0005 Ag: < .0002 |
| 結晶構造 | 六角形: a= 3.252 å、c = 5.207 å |
| 格子パラメータ | a=3.252Å c=5.313Å |
| 成長方法 | 熱水 |
| 硬度 | 4mohスケール |
| 密度 | 5.7g/cm3 |
| 融点 | 1975 ℃ |
| 比熱 | 0.125カロリー/グラム |
| 熱電定数 | 1200 mV /oK @ 300 °C |
| 熱伝導率 | 0.006 cal/cm/ok |
| 熱膨張係数(CTE) | 6.5 x 10^-6 /℃ (軸方向) 3.7 x 10^-6 /℃ (c 軸方向) |
| ゼーベック係数 | 0.006 カロリー/cm/K |
| 伝送範囲 | 0.4 – 0.6 m > 2 mm で 50% |
| 転位密度 | <0001>面<100/cm2 |
2.0 標準基板
| オリエンテーション | <0001>、<11-20>、<10-10>± 0.5o またはカスタム方向 |
| 研磨面 | 片面または両面EPI研磨、Ra < 5 Å |
| 標準サイズ | 5×5mm、10×10mm、20×20mm、25×25mm |
| 厚さ | 0.35mm、0.5mm、1.0mm |
| 表面粗さ | Ra < 5A (AFM 表面粗さ測定) |
| 表面研磨 | 片面研磨(SSP)または両面研磨(DSP) |
2-1.アンドープ ZnO ウェーハ基板 - C プレート
ZnO (0001) 5x5x0.5mm、O面 1SP
ZnO (0001) 10x10x0.5mm、1sp Zn 面研磨
ZnO (0001) 5x5x0.2mm、2sp
ZnO (0001) 5x5x0.5mm、1sp Zn 面研磨
ZnO (0001) 5x5x0.5mm、2sp
ZnO (000-1) 10x10x0.2 mm、1sp O 面研磨
ZnO (000-1) 10x10x0.5mm、1sp O 面研磨
ZnO (0001) 10x10x0.5mm、2sp
ZnO (000-1) 10x10x1.0 mm、1sp 酸素面研磨
ZnO (0001) 10x10x1.0 mm、1sp Zn 面研磨
ZnO (0001) 10x10x1.0 mm、2sp
ZnO (000-1) 20x20x0.2 mm、1sp O 面研磨
ZnO (000-1) 20x20x0.5mm、1sp O 面研磨
ZnO (0001) 20x20x0.5mm、2sp
ZnO (000-1) 20x20x1.0 mm、1sp 酸素面研磨
ZnO (0001) 20x20x1.0 mm、1sp Zn 面研磨
ZnO (0001) 20x20x1.0 mm、2sp
ZnO(0001) φ25.4 x0.5mm、両面研磨(Zn面エピ研磨)
2-2.アンドープ ZnO ウェーハ基板 - プレート
ZnO (11-20) A 面 5x5x0.5mm、1sp
ZnO (11-20) A 面 5x5x0.5mm、2sp
ZnO (11-20) A 面 10x10x0.5mm、1sp
ZnO (11-20) A 面 10x10x1.0mm、1sp
ZnO (11-20) A 面 10x10x1.0mm、2sp
ZnO (11-20) A 面 10x10x0.5mm、2sp
2-3.アンドープ ZnO ウェーハ基板 - M プレート
ZnO (1-100) M 面 5x5x0.5mm、1sp
ZnO (1-100) M 面 5x5x0.5mm、2sp”
ZnO (1-100) M 面 10x10x0.5mm、1sp
ZnO (1-100) M 面 10x10x0.5mm、2sp
2-4.アンドープ ZnO ウェーハ — (10-10)
ZnO (10-10) 10x10x0.5mm、1sp
ZnO (10-10) 10x10x0.5mm、2sp
2-5. GaドープZnOウエハ
Ga:ZnO (0001) N+ タイプ、Ga ドープ、10x10x0.5mm、1sp Zn 面研磨
Ga:ZnO (0001) N+ タイプ、Ga ドープ、10x10x0.5mm、1sp Zn 面研磨
Ga:ZnO (0001) N+ タイプ、Ga ドープ、10x10x0.5mm、1sp Zn 面研磨
Ga:ZnO (0001) N+ タイプ、Ga ドープ、10x10x0.5mm、1sp Zn 面研磨
Ga:ZnO (0001) N+ タイプ、Ga ドープ、10x10x0.5mm、1sp Zn 面研磨
Ga:ZnO (0001) N+ タイプ、Ga ドープ、10x10x0.5mm、1sp Zn 面研磨
Ga:ZnO (0001) N+ タイプ、Ga ドープ、10x10x0.5mm、1sp Zn 面研磨
ZnO (0001)、N+ タイプ、Ga ドープ、5x5x0.5mm、O 面 1SP
ZnO (0001)、N+ タイプ、Ga ドープ、10x10x0.5mm、1sp Zn 面研磨
ZnO (0001)、N+ タイプ、Ga ドープ、5x5x0.2mm、2sp
ZnO (0001) 、N+ タイプ、Ga ドープ、5x5x0.5mm、1sp Zn 面研磨
ZnO (0001) N+ タイプ、Ga ドープ、5x5x0.5mm、2sp
ZnO (000-1) N+ タイプ、Ga ドープ、10x10x0.2 mm、1sp O 面研磨
ZnO (000-1) N+ タイプ、Ga ドープ、10x10x0.5mm、1sp O 面研磨
ZnO (0001) N+ タイプ、Ga ドープ、10x10x0.5mm、2sp
ZnO (000-1) N+ タイプ、Ga ドープ、10x10x1.0 mm、1sp 酸素面研磨
ZnO (0001) N+ タイプ、Ga ドープ、10x10x1.0 mm、1sp Zn 面研磨
ZnO (0001) N+ タイプ、Ga ドープ、10x10x1.0 mm、2sp
ZnO (000-1) 20x20x0.2 mm、1sp O 面研磨
ZnO (000-1) N+ タイプ、Ga ドープ、20x20x0.5mm、1sp O 面研磨
ZnO (0001) N+ タイプ、Ga ドープ、20x20x0.5mm、2sp
ZnO (000-1) N+ タイプ、Ga ドープ、20x20x1.0 mm、1sp 酸素面研磨
ZnO (0001) N+ タイプ、Ga ドープ、20x20x1.0 mm、1sp Zn 面研磨
ZnO (0001) N+ タイプ、Ga ドープ、20x20x1.0 mm、2sp
3. ZnO ウェーハの抵抗率:
高純度のアンドープ ZnO 基板の場合、抵抗率は 100 ~ 500ohm.cm または (0.1 ~ 1)ohm.cm になります。成長プロセス方法が異なるため。 GaドープZnOウェーハの場合、抵抗率は(0.1~1)ohm.cmである必要があります。
詳細については、メールでお問い合わせください。ビクターちゃん@powerwaywafer.comと[email protected]
