질화물의 일반 특성

질화물의 일반 특성

소개
이진 사촌인 InN 및 AlN과 이들의 삼항을 대표하는 GaN
4차 반도체는 Si 다음으로 중요한 반도체 중 하나로 간주됩니다.
모든 종류의 조명 및 디스플레이에 폭넓게 적용할 수 있다는 것은 놀라운 일이 아닙니다.
레이저, 검출기 및 고출력 증폭기. 이러한 응용 프로그램은
질화물 반도체의 우수한 광학적, 전기적 특성. 매개변수
이 종류의 재료의 유용성과 적용 가능성을 결정하는 데 필수적입니다.
이 장과 책 전반에 걸쳐 분명하게 설명될 장치입니다.
이 장에서는 구조적, 기계적, 열적, 화학적, 전기적,
GaN과 그 이진 사촌뿐만 아니라 일반적으로 기판의 광학적 특성
질화물 에피택시에 사용되는 재료는 빠른 참조를 위해 일반적인 의미로 취급됩니다. 상세한
전기적, 광학적 매개변수 및 속성과 관련된 속성은 다음과 같습니다.
GaN의 전송 및 광학 프로세스를 다루는 장에서 논의되었으며
관련 합금. GaN은 외부에 증착된 박막 형태로 사용되기 때문에
GaN 이외의 템플릿을 의미하는 기판, 헤테로에피택셜 얇은 논의
영화는 무엇보다 중요하다. 결과적으로 질화막의 특성은
격자와 같은 고유한 특성을 포함하여 기판에 복잡하게 의존합니다.
상수, 열팽창계수, 공정에 따른 특성
표면 준비 및 화학적, 물리적 상호 작용과 같은
표면. 이것들도 책에서 논의됩니다.

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