실리콘 웨이퍼 다양한 금속 증착이 있는 제품은 2인치에서 12인치까지의 크기로 판매됩니다. 실리콘 웨이퍼의 금속 증착은 일반적으로 기판 표면에 처리되며 기판의 두께는 일반적으로 300um~700um입니다. 참고용으로 웨이퍼 목록이 아래에 나와 있습니다.
1. 실리콘 웨이퍼의 금속 증착 웨이퍼 목록
아니. | 자료 | 크기 (인치) | 표면 완료 | 유형 | 두께 (음) | 필름 두께(nm) | 저항. (ohm.cm) | 참조 모서리 |
M2 | 금도금 실리콘 웨이퍼 | 4 | SSP | N100 | 450 ± 15 | 10nmCr + 100nmAu | 0.01~0.02 | 2 |
M4 | 금도금 실리콘 웨이퍼 | 2 | SSP | P100 | 430 ± 10 | 20nmTi + 100nmAu | 0~0.005 | – |
M5 | 금도금 실리콘 웨이퍼 | 2 | SSP | N100 | 430 ± 10 | 20nmTi + 1200nmAu | 0~0.05 | 1 |
M14 | 구리 코팅 실리콘 웨이퍼 | 6 | SSP | N100 | 675 ± 25 | 2000nmCu | 1~100 | – |
M15 | 알루미늄 코팅 실리콘 웨이퍼 | 8 | SSP | P100 | 700 ± 25 | 500nmAl | 1~100 | – |
M18 | 동도금 실리콘 웨이퍼 | 12 | SSP | P100 | 700 ± 25 | 1000nmCu | 1~100 | – |
M19 | 구리 코팅 실리콘 웨이퍼 | 12 | SSP | P100 | 700 ± 25 | 500nmCu | 1~100 | – |
M20 | 동도금 실리콘 웨이퍼 | 6 | SSP | N100 | 625 ± 25 | 125nmCu | 0.01~0.02 | – |
M21 | 금도금 실리콘 웨이퍼 | 2 | SSP | P100 | 400 ± 15 | 10nmCr + 100nmAu | 0~0.0015 | – |
M22 | 금도금 실리콘 웨이퍼 | 2 | SSP | N100 | 280 ± 15 | 10nmCr + 100nmAu | 0~0.05 | – |
M33 | 백금 코팅 실리콘 웨이퍼 | 2 | SSP | P100 | 430 ± 15 | 30nmTi+150nmPt | 0~0.0015 | – |
M34 | 금도금 Si 웨이퍼 | 4 | DSP | 100 | 110±25 | 10nmCr-+50nmAu | 0.01~0.05 | – |
M35 | 금도금 Si 웨이퍼 | 6 | DSP | 100 | 200 ± 25 | 10nmCr+50nmAu | 0.005~0.01 | – |
M36 | 금도금 Si 웨이퍼 | 6 | SSP | N100 | 625 ± 25 | 10nmCr+50nmAu | 0.01~0.02 | – |
M37 | 금도금 Si 웨이퍼 | 4 | DSP | P100 | 200 ± 10 | 50nmCr+10nmAu | 2~3 | – |
M40 | 백금 실리콘 웨이퍼 | 4 | SSP | P100 | 515±15 | 300nmSi02+30nmTi+300nmPt | 0.008~0.012 | 2 |
M41 | 백금 실리콘 웨이퍼 | 4 | SSP | P100 | 525 ± 25 | 300nmSi02+30nnTi+300nmPt | 0.01~0.02 | 2 |
M42 | Au 코팅된 Si 웨이퍼 | 6 | DSP | 100 | 200 ± 25 | 10nmCr+50nmAu | 0.005~0.01 | – |
M43 | Pt 코팅된 Si 웨이퍼 | 4 | SSP | P100 | 500 ± 15 | 300nmSi02+30nmTi+150nmPt | 0~0.0015 | 2 |
M44 | Pt 도금 Si 웨이퍼 | 4 | SSP | P100 | 500 ± 15 | 500nmSi02+30nmTi+150nmPt | 0~0.0015 | 2 |
M46 | Au 도금 Si 웨이퍼 | 4 | SSP | N100 | 525 ± 15 | 30nmCr+125nmAu | 0~0.005 | – |
M47 | Cu 도금 Si 웨이퍼 | 4 | SSP | N100 | 525 ± 15 | 30nmCr+100nmCu | 0~0.005 | – |
M49 | Cu 도금 Si 웨이퍼 | 4 | SSP | P100 | 525 ± 15 | 30nmCr+100nmCu | 8 ~ 12 | 2 |
M50 | Au 도금 Si 웨이퍼 | 4 | SSP | N100 | 450 ± 15 | 90nmSi02+10nmCr+100nmAu | 0.012~0.018 | – |
M51 | Pt 코팅된 Si 웨이퍼 | 4 | SSP | P100 | 500 ± 10 | 280nmSi02+150nmPt | 0~0.0015 | 1 |
M52 | 크롬 코팅 Si 웨이퍼 | 4 | SSP | N100 | 525 ± 25 | 200nmCr | 0.01~0.02 | 2 |
M54 | Ag 코팅 Si 웨이퍼 | 4 | SSP | P100 | 500 ± 10 | 30nmCr+200nmAg | 0~0.05 | 2 |
M55 | Cu 코팅 실리콘 웨이퍼 | 4 | DSP | P100 | 500 ± 10 | 20nmTi + 100nmAu | 0~0.05 | 2 |
M56 | Cu 도금 실리콘 웨이퍼 | 4 | DSP | P100 | 500 ± 10 | 20nmNi+100nmAu | 0~0.05 | 2 |
M57 | Cu 코팅 실리콘 웨이퍼 | 4 | SSP | N100 | 500 ± 10 | 무광택 표면 20nnTi+100nmAu | 1~3 | 2 |
M58 | 금으로 코팅된 실리콘 웨이퍼 | 4 | DSP | N100 | 525 ± 25 | 20nmTi + 100nmAu | 0~0.01 | 2 |
M59 | 금으로 도금된 실리콘 웨이퍼 | 4 | SSP | P100 | 525 ± 20 | 무광택 표면 20nmNi+100nmAu | 1-3 | 2 |
우리는 또한 Al 코팅 실리콘 웨이퍼(PAM200723-SI)를 제공할 수 있습니다.
8″ 알루미늄 코팅 Si 웨이퍼
직경: 200+/-0.5mm
유형: P/붕소
방향: <100>
비저항: >0.5 ohm.cm
두께: 200um+/-50um
노치: V
표면: 광택/에칭
코팅층: Ti 500A + Al 30,000A+/-10%
백금(Pt) 코팅된 실리콘 웨이퍼를 예로 들면: 백금층은 높은 경도, 낮은 저항 및 우수한 용접성을 가지므로 백금 도금된 실리콘 웨이퍼의 전도성, 경도 및 내식성이 증가하여 전도성으로 사용할 수 있습니다. 기질.
2. 실리콘 웨이퍼의 백금 코팅에 대하여
실리콘 웨이퍼에 금속 증착은 금속 박막을 웨이퍼에 증착하여 전도성 회로를 형성하는 금속화 공정을 말합니다. 금속은 일반적으로 금, 백금, 알루미늄, 구리, 은 등입니다. 금속 합금도 사용할 수 있습니다.
진공 증착 기술은 금속화 공정에서 자주 사용됩니다. 증착 공정의 경우 스퍼터링, 전자빔 증발, 플래시 증발 및 유도 증발이 Si 웨이퍼에 백금 필름을 제조하는 일반적인 방법입니다.
실리콘 웨이퍼는 일반적으로 스퍼터링 소스에서 강유전성 박막을 증착하고 성장시키는 데 사용됩니다. 소결을 위한 온도는 일반적으로 650~850°C에 도달할 수 있습니다. 소결하는 동안 응력이 크게 변하고 기가파스칼에 도달하면 장력이나 압축이 감소합니다. 그 후, 강유전체 박막의 일반적인 응력은 약 10o 기가파스칼입니다. Pt 박막은 온도가 750°C 이상일 때 작은 균열이 나타납니다. 따라서 실리콘 웨이퍼 공정에서 Pt 금속층은 750°C 이하의 온도에서 증착되어야 합니다.
자세한 내용은 다음 주소로 이메일을 보내주십시오. victorchan@powerwaywafer.com 과 powerwaymaterial@gmail.com.