Деформационное поведение и механизм повреждения 3C-SiC при наноиндентировании

Деформационное поведение и механизм повреждения 3C-SiC при наноиндентировании

PAM-XIAMEN поставляет пластины 3C-SiC для исследовательских целей. Для получения подробной информации обращайтесь:[email protected]

Кубический карбид кремния (3C-SiC) демонстрирует большой потенциал в передовых областях, таких как микроэлектромеханические системы, квантовые вычисления и оптоэлектронные устройства, благодаря своей широкой запрещенной зоне, высокой теплопроводности, высокой напряженности поля критического пробоя и превосходной химической инертности. Однако сверхвысокая твердость и внутренняя хрупкость 3C-SiC делают его сверхточную обработку чрезвычайно сложной задачей, а повреждение поверхности и подповерхностной обработки, вызванное механической обработкой, стало ключевым узким местом, ограничивающим его высокотехнологичное применение. Поэтому глубокое понимание поведения деформации и механизмов повреждения 3C-SiC при контактном нагружении имеет большое теоретическое и инженерное значение для оптимизации методов его обработки.

В последние годы исследователи широко исследовали механический отклик 3C-SiC, сочетая эксперименты по наноиндентированию с моделированием молекулярной динамики. Чжу и др. систематически исследовал поведение наноиндентирования 3C-SiC на кристаллических плоскостях (010), (110) и (111) с использованием моделирования молекулярной динамики (МД), выявив анизотропные характеристики упругой деформации и эволюции дислокаций, а также ввел тетраэдр Томпсона для объяснения внутреннего механизма пластической деформации. Между тем, температура, как ключевой фактор в реальных условиях эксплуатации, существенно влияет на механические свойства 3C-SiC. Курбани и др. С помощью МД-моделирования обнаружено, что повышение температуры снижает твердость и модуль Юнга материала и способствует аморфизации. С другой стороны, традиционные методы механики сплошной среды имеют ограничения при решении дискретных задач, таких как возникновение и распространение трещин. Чтобы решить эту проблему, Ян и Чжу применили перидинамику для моделирования развития повреждений 3C-SiC при вдавливании и царапании, успешно воспроизведя феномен «всплывания» и образования радиальных трещин. Эти исследования предоставляют многомасштабные ссылки для понимания механического поведения и теории обработки 3C-SiC.

1. Анизотропная упругая деформация и раннее пластическое поведение 3C-SiC.

3C-SiC имеет структуру цинковой обманки, и его механический отклик сильно зависит от ориентации кристаллов. С помощью MD-моделирования Zhu et al. обнаружили, что при наноиндентировании на плоскостях (010), (110) и (111) области упругой деформации проявляют резко различную симметрию: плоскость (010) обладает четырехкратной симметрией с пирамидальной зоной деформации, расширяющейся вдоль направления <110>; плоскость (110) обладает центральной симметрией, зона деформации расщепляется на две части; плоскость (111) демонстрирует тройную симметрию, причем три зоны упругой дисторсии также расширяются в направлении <110>. Этот результат указывает на то, что направление <110> является оптимальным путем для передачи упругого напряжения.

Рис. 1. Морфология зоны упругой деформации 3C-SiC при глубине отпечатка 1,1 нм: а, г – плоскость (010); (б, д) (110) – плоскость; (в, е) (111) плоскость

Рис. 1. Морфология зоны упругой деформации 3C-SiC при глубине отпечатка 1,1 нм: а, г – плоскость (010); (б, д) (110) – плоскость; (в, е) (111) – плоскость; красные стрелки указывают направление распространения упругой деформации

Судя по кривым нагрузка-глубина, длина упругой стадии существенно различается в зависимости от различных кристаллических плоскостей. Кривая Ph для плоскости (010) очень хорошо соответствует модели контакта Герца при h<2,0 нм, тогда как упругие стадии для плоскостей (110) и (111) значительно короче, что указывает на более раннюю пластическую текучесть. Примечательно, что всплывающие события появляются на кривых для плоскостей (010) и (110), но не наблюдаются для плоскости (111). С помощью анализа атомного смещения Zhu et al. подтвердили, что событие всплывающего окна соответствует направленному движению большого количества атомов вдоль направления <110>, что приводит к внезапному высвобождению запасенной упругой энергии. Например, при увеличении глубины отпечатка на плоскости (110) с 2,2 нм до 2,3 нм количество атомов со смещением более 0,1 нм увеличивается с 9558 до 13767; эта коллективная миграция атомов является прямым микроскопическим механизмом всплывающего окна.

Рис. 2 (ac) Кривые глубины нагрузки наноиндентирования на поверхностях 3C-SiC (010), (110) и (111); (г) Сравнение трех фазовых кривых и модели упругого контакта Герца.

Рис. 2 (ac) Кривые глубины нагрузки наноиндентирования на поверхностях 3C-SiC (010), (110) и (111); (г) Сравнение трех фазовых кривых и модели упругого контакта Герца.

Чтобы количественно описать влияние распределения напряжений на инициирование пластичности, Zhu et al. рассчитал распределение касательного напряжения по Мизесу. При глубине отпечатка 2,0 нм градиент напряжений уменьшается в зоне упругой деформации; когда глубина достигает 2,1 нм и начинают зарождаться дислокации, напряжение в дислокационной области возрастает до 8–10 ГПа, а напряжение между искаженной и неискаженной областями падает до 5–8 ГПа. Это указывает на то, что расширение дислокаций эффективно рассеивает локальное высокое напряжение, позволяя части искаженной структуры вернуться к идеальной алмазной структуре.

2. Зарождение, распространение дислокаций и анализ тетраэдра Томпсона.

В пластической деформации 3C-SiC в основном преобладает скольжение дислокаций. Используя алгоритм извлечения дислокаций, Zhu et al. определили, что первоначальная дислокация представляет собой идеальную дислокационную петлю с вектором Бюргерса b = 1/2[1-10], зарождающуюся из области высокого напряжения сдвига под индентором. Скольжение дислокаций преобразует последовательность укладки атомов из исходной ABCABC в ABABC, где атомы кремния отклоняются от своих исходных положений и образуют новые связи с соседними атомами углерода в направлении <110>. Этот процесс знаменует собой необратимый переход от эластичности к пластичности.

Рис. 3. Поперечное сечение дислокационной зоны при наноиндентировании.

Рис. 3. Поперечное сечение дислокационной зоны при наноиндентировании: а — локальный вид; (б) поперечное сечение; красные пунктирные стрелки указывают на смещение атомов кремния из исходных позиций связи в новые позиции.

По мере увеличения глубины отпечатка зародышевые дислокации постепенно превращаются в ленты дефектов упаковки и призматические дислокационные петли. На примере плоскости (010): на глубине 2,1 нм два дефекта упаковки (SF1 и SF2), расположенные на плоскостях (111), пересекаются, образуя 1/2[1-10] ступенчато-стержневую дислокацию (SRD), которая затем соединяется в ленточную дислокационную петлю; при увеличении глубины до 2,6 нм дислокация «откалывается», образуя изолированные призматические дислокационные петли. Аналогично на плоскостях (110) и (111) также наблюдается последовательность эволюции эмбриональная дислокация → ленточная дислокация → призматическая дислокация, но скорость эволюции и геометрическая морфология различаются из-за анизотропии.

Рис. 4. Эволюция дислокаций с глубиной отпечатка на плоскости (010): (а) h = 2,1 нм; (б) h = 2,2 нм; (в) h = 2,5 нм; (г) h = 2,6 нм

Рис. 4. Эволюция дислокаций с глубиной отпечатка на плоскости (010): (а) h = 2,1 нм; (б) h = 2,2 нм; (в) h = 2,5 нм; (г) h = 2,6 нм

Чтобы систематически объяснить эту анизотропию, Чжу и др. представил модель тетраэдра Томпсона. При отпечатке на плоскости {100} дефекты упаковки на четырех плоскостях скольжения {111} (ACE, AEG, ACG, CEG) пересекаются, каждая из которых вызывает ступенчато-стержневые дислокации в направлении <110>, причем реакция представляется как δβ = δE + Eβ и т. д. Для плоскости {110} некоторые плоскости скольжения перпендикулярны поверхности отпечатка, что приводит к расширению призматических дислокационных петель перпендикулярно поверхности; для плоскости {111} три ленточные дислокации обладают тройной симметрией, образуя в конечном итоге три призматические дислокационные петли. Тетраэдр Томпсона обеспечивает краткую, но мощную геометрическую основу для понимания пластической анизотропии керамики с кубической ромбовидной структурой.

3. Влияние температуры на механические свойства и поведение деформации.

В практических приложениях устройства 3C-SiC могут работать в широком диапазоне температур, поэтому температурные эффекты нельзя игнорировать. Курбани и др. исследовали реакцию наноиндентирования 3C-SiC на плоскости (010) в диапазоне температур от 50 до 1000 К с использованием МД-моделирования. Они обнаружили, что с увеличением температуры максимальная нагрузка при отпечатке уменьшается с 2555,4 нН (50 К) до 2197,4 нН (1000 К). С помощью метода Оливера-Фарра было обнаружено, что модуль Юнга линейно уменьшается от 328 ГПа (50 К) до 293,5 ГПа (1000 К), при этом значение при комнатной температуре (300 К) составляет примерно 318 ГПа, что близко к экспериментальному значению 314 ГПа; твердость аналогично снижается с 45,3ГПа до 37,9ГПа. Этот эффект размягчения возникает из-за увеличения межатомного расстояния и уменьшения энергии ковалентной связи Si-C с повышением температуры.

Температура также существенно влияет на поведение дислокаций. Курбани и др. проанализировали морфологию дислокаций при разных температурах с помощью DXA. Совершенные дислокации с b = 1/2<110> и частичные дислокации Шокли с b = 1/6<112> наблюдались при всех температурах, причем совершенные дислокации преобладали. С повышением температуры общая длина дислокаций заметно увеличивается, и образование призматических дислокационных петель типа «лассо» становится более активным. Это указывает на то, что термическая активация способствует зарождению и скольжению дислокаций, повышая пластическую деформируемость.

Рис. 5. ДРА и IDS-анализ: дислокационные структуры 3C-SiC после индентирования на максимальную глубину (h = 2,5 нм) при разных температурах.

Рис. 5 DXA и IDS анализ: дислокационные структуры 3C-SiC после индентирования на максимальную глубину (h = 2,5 нм) при различных температурах (50К, 100К, 300К, 500К, 800К, 1000К)

Особый интерес представляет роль температуры в регулировании фазового превращения и аморфизации. Используя метод определения алмазной структуры, Курбани и др. обнаружили, что в зоне индентирования появляются атомы с гексагональной структурой алмаза (т.е. структурой вюрцита B4), как показано на рис. 6. С ростом температуры количество «других» атомов (представляющих аморфное состояние) уменьшается, а количество атомов HD (структура вюрцита) также уменьшается при 1000 К. Анализ функции радиального распределения показывает, что после индентирования пики дальнего порядка исчезают, подтверждая, что аморфизация действительно происходит и становится более выраженной при более высоких температурах. Анализ координационного числа далее показывает, что с увеличением температуры доля атомов с CN = 4 уменьшается, а количество атомов с низкой координацией (CN = 1, 2, 3) увеличивается, что указывает на то, что температура способствует переходу атомов из идеальной решетки в неупорядоченную структуру. Эти результаты показывают двойное влияние температуры на структурную стабильность 3C-SiC: с одной стороны, термическая активация способствует скольжению дислокаций; с другой стороны, это усугубляет повреждение аморфизации.

Рис. 6. Распределение деформированных атомов в 3C-SiC после индентирования при различных температурах (исключая атомы структуры кубического ромба)

Рис. 6. Распределение деформированных атомов в 3C-SiC после индентирования при различных температурах (исключая атомы кубической структуры алмаза): HD, HD (1-й сосед), HD (2-й сосед) представляют собой атомы, относящиеся к структуре вюрцита; «другое» представляет собой аморфные атомы

4. Моделирование повреждений и разрушения на основе перидинамики

Хотя МД-моделирование может разрешить пластическую деформацию на атомном уровне, их вычислительный масштаб обычно ограничен нанометровым диапазоном (десятки нанометров), что затрудняет прямое сравнение с экспериментами микрометрового масштаба. Более того, MD неэффективен в борьбе с распространением трещин во время хрупкого разрушения. Чтобы решить эти проблемы, Ян и Чжу смоделировали процессы вдавливания и царапания 3C-SiC, используя подход перидинамики (PD). Перидинамика — это нелокальная теория, которая заменяет дифференциальные уравнения в частных производных интегральными уравнениями, что делает ее естественно подходящей для решения разрывных задач, таких как возникновение и распространение трещин.

При моделировании вдавливания Ян и Чжу наблюдали явный феномен «всплывания» на кривой зависимости нагрузки от глубины, который хорошо согласуется с поведением пластического взрыва, наблюдаемым при моделировании МД. Кривые нагружения при разных скоростях вдавливания (1–20 м/с) в значительной степени перекрываются, но при разгрузке более высокие скорости приводят к более быстрому падению нагрузки. Что еще более важно, моделирование PD успешно воспроизвело морфологию трещин, вызванных вдавливанием: когда глубина вдавливания достигает 15 мкм при скорости 5 м/с, можно четко наблюдать радиальные, боковые и срединные трещины, что соответствует экспериментальной морфологии трещины вдавливания. Это демонстрирует, что PD может фиксировать характеристики разрушения хрупких материалов в непрерывном масштабе.

Рис. 7. Морфология повреждений при вдавливании 3C-SiC при скорости вдавливания 5 м/с: (а–в) виды сверху; (г–и) поперечные сечения

Рис. 7. Морфология повреждений при вдавливании 3C-SiC при скорости вдавливания 5 м/с: (а–в) виды сверху; (г–и) поперечные сечения

При моделировании царапин Ян и Чжу исследовали изменения силы трения и нормальной силы на различной глубине царапин (1–4 мкм). На глубине 1 мкм и 2 мкм по бокам царапочной канавки трещины не появляются, съем материала преимущественно пластический; при увеличении глубины до 3 мкм и 4 мкм на краях канавок появляются радиальные трещины, а силы трения и нормальные силы испытывают периодические колебания. Удельная энергия резания (энергия, потребляемая на единицу объема удаляемого материала) нелинейно возрастает с уменьшением глубины царапания, достигая 22 ГПа на глубине 1 мкм, что демонстрирует значительный размерный эффект.

Ян и Чжу дополнительно смоделировали процесс царапания двойным индентором, чтобы имитировать взаимодействие нескольких абразивов при реальном шлифовании. Когда расстояние между двумя инденторами составляет 50 мкм, ширина царапины составляет примерно 92 мкм, что более чем в два раза превышает ширину царапины с одним индентором, а объем удаления материала является самым большим; при расстоянии 60 мкм две царапины независимы, а объем удаления всего в два раза больше, чем при использовании одного индентора; при расстоянии 40 мкм зоны повреждения перекрываются, но общий объем удаления уменьшается. Это явление объясняется эффектом суперпозиции поля смещения: на соответствующем расстоянии трещины соединяются между двумя инденторами, что приводит к совместному удалению материала; слишком маленькое расстояние приводит к взаимному подавлению полей смещений, а слишком большое расстояние не приводит к взаимодействию. Этот вывод обеспечивает теоретическую основу для оптимизации параметров процесса измельчения.

Рис. 8. Морфология повреждения при царапании двойным индентором (глубина вдавливания 3 мкм).

Рис. 8. Морфология повреждений при царапании двойным индентором (глубина вдавливания 3 мкм): (а, г) расстояние 40 мкм, царапины неправильной формы; (б, д) расстояние 50 мкм, значительно увеличенная ширина царапины, максимальный объем удаления материала; (в, е) расстояние 60 мкм, две независимые царапины

Рис. 9. Вид сбоку в разрезе царапания двойным индентором: (а) расстояние 40 мкм; (б) расстояние 50 мкм; (в) расстояние 60 мкм

Рис. 9. Вид сбоку в разрезе царапания двойным индентором: (а) расстояние 40 мкм; (б) расстояние 50 мкм; (в) расстояние 60 мкм

С помощью сочетания МД и ФД моделирования исследователи выявили анизотропную деформацию, эволюцию дислокаций, температурные эффекты и механизмы повреждения/разрушения 3C-SiC при наноиндентировании. Исследование показывает, что упругое и пластическое поведение сильно зависит от ориентации кристалла: дислокации зарождаются вдоль системы скольжения {111}<110> и превращаются в призматические петли; повышение температуры снижает твердость и модуль упругости, одновременно способствуя аморфизации. Метод PD успешно воспроизводит явление «всплывания» при вдавливании и распространении трещин при царапании, а также определяет оптимальное расстояние между двойными инденторами для повышения эффективности удаления материала. Будущая работа может привести к дальнейшему развитию многомасштабных моделей связи и потенциальных функций машинного обучения для достижения количественного прогнозирования от атомных механизмов до процессов обработки.

Если вам нужна пластина 3C-SiC для исследований или промышленного применения, свяжитесь с нами по электронной почте:[email protected] и [email protected].

 

Использованная литература:

  1. Чжу Б., Чжао Д., Чжан З., Ню Ю., Чжан З., Чжао Дж.,… и Чжао Х. (2024). Атомное исследование поведения деформации и эффекта анизотропии 3C-SiC при наноиндентировании. Журнал исследований материалов и технологий, 28, 2636–2647.
  2. Курбани Х., Богтоб С., Самири А., Хассани А. и Хаснауи А. (2025). Термическое наноиндентирование (3C) карбида кремния 3C-SiC с использованием молекулярно-динамического моделирования. Твердотельные коммуникации, 403, 116013.
  3. Сюй Ю. и Чжу П. (2022). Перидинамическое моделирование повреждений при вдавливании и царапании 3C-SiC. Журнал исследований материалов, 37 (23), 4381-4391.

has been added to your cart.
Контроль