Хром фотошаблоны

Хром фотошаблоны

Доступны хромированные фотошаблоны для переноса схемотехники высокой точности. В фотомаска представляет собой пленку с рисунком в процессе производства чипа и является одним из определяющих факторов точности и качества чипа. Дополнительные характеристики см. Ниже:

Хром фотошаблоны

No 1 5-дюймовая хромированная пластина для маски (PAM180119-MASKW)

Материал Заготовки для масок из содовой извести
Размер 5 дюймов
Толщина ~ 0,06 дюйма
Плоскостность стекла ≤15 мкм
Плоскостность пластины маски ≤15 мкм
Стекло дефект DDPSI для 0,5 мкм <1,0 PSI
Дефект субстрата DDPSI для 1,0 мкм (видимый)
Предварительное покрытие Предварительно покрытый позитивным фоторезистом толщиной ~ 500 нм (отклонение <10%)
Предварительно запекать Предварительно запеченные и совместимы с лазерным лучом 405 нм
Cr- Толщина 100 нм, отклонение <10%
Отражательная способность покрытия Cr 11,0 ± 3,0 при 436 нм
Покрытие Cr Оптическая плотность 3 ± 0,2 при 450 нм
Плотность отверстий под штифт ≤1PSI

 

№2 Фотошаблон(PAM180904-MASKW)

я. Размеры (ШxВxТолщина): квадрат 5 ″ x 5 ″ x 0,090 ″.
II. Подложка: кварц
iii. Покрытие: антибликовый хром
iv. Минимальная характеристика / критический размер (CD): 1 мкм +/- 0,1 мкм

No 3 Хром на кварце или натриевой соли(PAM200303-MASKW)

Фотошаблон; 4 ″ x 4 ″ x 0,090 ″, минимальный размер элемента 1 микрон, хром на кварце
Фотошаблон; 4 ″ x 4 ″ x 0,090 ″, минимальный размер элемента 5 микрон, хром на натронной извести

No.4 Хромовая фото маска(PAM200426-MASKW)

3 ”хромированные заготовки для фотошаблонов
Хромированное покрытие прибл. Толщина 100-110 нм
Натронная известь (подложка), пластина толщиной 1,5 мм
Позитивный фоторезист Photoresist AZ 1500, чувствительный к длине волны 365 нм

Хромированные заготовки для фотошаблонов 4 ”и 5”
Хромовое покрытие толщиной примерно 100-110 нм
Натронная известь (подложка), плита толщиной 2,2 мм
Позитивный фоторезист Photoresist AZ 1500, чувствительный к длине волны 365 нм

Хромированная фотошабра No 5 (PAM190410-MASKW)

Хромированная фотошаблона (126мм х 126мм, с рисунком). Разрешение 20 мкм должно быть достаточно хорошим. Все размеры можно округлить до 20 мкм.
Маска будет использоваться для фотолитографии на 4-дюймовой пластине.

Подложка для фотошаблона №6 из плавленого кварца (PAM201216-MASKW)

9 ”(225x225 мм) Кварцевая фотошаблона
мин. ширина шва / линии: 2 мкм
точность на шве: ± 0,3 мкм

Фотомаска в основном состоит из двух компонентов: подложки и непрозрачного материала. Непрозрачный материал разных масок разный. Обычно в качестве подложки используется кварцевое стекло высокой чистоты, с низким коэффициентом теплового расширения и низкой отражательной способностью. Фотошаблон разделен на хромовую пластину (натриевое стекло, кварцевое стекло, боросиликатное стекло), сухую пластину, пленку и рельефную пластину (APR). Непрозрачный слой хромовой пластины представляет собой слой хрома толщиной 0,1 мкм, который напыляется под стеклом.

Для получения дополнительной информации, пожалуйста, свяжитесь с нами по электронной почте по адресу [email protected] и [email protected].

Поделиться этой записью