Доступна заготовка фотошаблона с антибликовым хромом. Фотошаблоны в основном используются в интегральных схемах, плоских дисплеях (включая LCD, LED, OLED), печатных платах и других областях. Фотошаблон - это мастер выкройки используется в процессе фотолитографии в производстве микроэлектроники. Вот характеристики заготовки фото маски для справки:
№1 Фото маски ПАМ190302-МАСХ
№ 1-1 Кремниевые пластины со структурами ИС (ASIC11) в соответствии со стандартами проектирования 0,35 мкм;
№1-2 Кремниевые пластины со структурами ИС (ASIC12) в соответствии со стандартами проектирования 0,35 мкм;
Примечание:
Диаметр подложки> = 150мм. Тип / легирующая добавка, ориентация, толщина, удельное сопротивление, передняя поверхность, задняя поверхность, плоскость (и) определяются производителем для обеспечения требуемых параметров элементной базы (транзисторов, резисторов, конденсаторов), указанных в проектном комплекте. Производитель предоставляет Design Kit, подходящий для разработки топологии IC. Заказчик выполняет разработку в соответствии с Design Kit и передает информацию производителю в формате GDS. Производитель выпускает комплект фотошаблонов в соответствии с информацией в формате GDS. Изготовитель изготавливает пластины из набора фотошаблонов согласно требованиям Design Kit.
№ 1-3 Фотомаска Бланк
размер 152 х 152 х мм, масштаб 5: 1, предназначен для фотолитографии с расчетными нормами 0,35 мкм;
Основные требования к шаблону
Назначение: бинарные шаблоны для проекции ф / л
Размер подложки: 6 "x6" x0,25 ", кварц
Тип оборудования: 5x, NIKON NSR 2205i11D
Поле экспонирования: 110 мм x 110 мм
Пелликул: Да, NIK49P-122-1K17 / HFLC, односторонняя защита от хрома (двусторонняя защита по запросу)
Минимальный критический размер: 1,75 мкм
Воспроизводимость критических размеров: 0,05 мкм (3σ)
Точность регистрации (Регистрация): 0,1 мкм
Дефект: 0,1 / см2 (1 микрон)
№2 Фотоумаска хромовая на кварце ПАМ200313-МАСХ
№ 2-1 Наименее сложный: Strip & Ship;
CD> = 5 мкм;
Обширные открытые пространства; Сетка записи: стандартная
Материал: кварц, антибликовый хром. Нет пленки.
№ 2-2 Умеренный:
Сетка 5x; 6 дюймов x 6 дюймов x 0,12 дюйма кварцевый;
Нет дефектов больше 2,5 мкм;
Дефект менее 1,25 мкм
CD> = 5 мкм; линии / пробелы / восьмиугольники;
Сетка записи: следует поддерживать компакт-диск
Материал: кварц, антибликовый хром. Нет пленки.
№ 2-3Самый сложный:
Сетка 5x; 6 дюймов x 6 дюймов x 0,12 дюйма кварцевый;
Отсутствие дефектов больше 1,25 мкм;
Дефект меньше 0,625 мкм
CD> = 2,5 мкм; линии / пробелы / восьмиугольники;
Сетка записи: следует поддерживать компакт-диск
Материал: кварц, антибликовый хром. Нет пленки.
В этих заготовках фотомаски не будет никакой пленки, а размер маски сетки будет 6 дюймов x 6 дюймов и 0,12 дюйма в толщину. Минимальные размеры элементов на масках - 2,5 и 5 мкм. Фотошаблон (сетка) предназначен для изготовления процесса литографии, который будет использоваться в шаговых машинах.
Технические параметры заготовки фотошаблона соответствуют требованиям таблиц 1 и 2.
Таблица 1 Параметры уровня качества фото-маски |
||||||||||||||||
класс | D | C | B | A | S | T | U | V | W | W + P | X | X + P | Y | Y + P | Z | Z + P |
Толерантность | ±0.3 | ±0.3 | ±0.2 | ±0.15 | ±0.1 | ±0.1 | ±0.05 | ±0.04 | ±0.035 | ±0.035 | ±0.032 | ±0.032 | ±0.028 | ±0.028 | ±0.022 | ±0.022 |
Означает нацеливаться | ±0.3 | ±0.3 | ±0.2 | ±0.15 | ±0.1 | ±0.075 | ±0.05 | ±0.04 | ±0.03 | ±0.03 | ±0.028 | ±0.028 | ±0.025 | ±0.025 | ±0.02 | ±0.02 |
единообразие | 0.2 | 0.2 | 0.2 | 0.15 | 0.1 | 0.075 | 0.05 | 0.04 | 0.035 | 0.035 | 0.035 | 0.035 | 0.03 | 0.03 | 0.025 | 0.025 |
Регистрация | ±0.4 | ±0.3 | ±0.2 | ±0.15 | ±0.1 | ±0.075 | ±0.05 | ±0.06 | ±0.055 | ±0.055 | ±0.05 | ±0.05 | ±0.045 | ±0.045 | ±0.04 | ±0.04 |
Размер дефекта | 1.5 | 1.5 | 1 | 0.8 | 0.6 | 0.4 | 0.4 | 0.35 | 0.3 | 0.3 | 0.25 | 0.25 | 0.2 | 0.2 | 0.2 | 0.2 |
плотность дефектов | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 |
Краевой дефект | / | / | / | / | / | / | / | 0.3 | 0.3 | 0.3 | 0.25 | 0.25 | 0.2 | 0.2 | 0.2 | 0.2 |
Шероховатость кромки | / | / | / | / | / | / | / | 0.3 | 0.3 | 0.3 | 0.25 | 0.25 | 0.2 | 0.2 | 0.2 | 0.2 |
Закругление углов | / | / | / | / | / | / | / | 0.3 | 0.3 | 0.3 | 0.25 | 0.25 | 0.2 | 0.2 | 0.2 | 0.2 |
Фаза PSM | / | / | / | / | / | / | / | / | / | 180 ± 4 | / | 180 ± 3 | / | 180 ± 3 | / | 180 ± 3 |
ПСМ транс | / | / | / | / | / | / | / | / | / | 6 ± 0,4 | / | 6 ± 0,3 | / | 6 ± 0,3 | / | 6 ± 0,3 |
Примечание:
Параметры применимы к шкале сетки; уровень качества оценивается от низкого к высокому:
- 0,5 мкм процесс поддерживает до уровня S; Процесс 0,35 мкм поддерживает до уровня U, процесс 0,18 мкм поддерживает до уровня X;
- Обычная стеклянная маска применима только к классу D.
Таблица 2 Требования к качеству фотошаблона | ||||||||
1: 1 основная маска | Сканирование электронного луча 1: 1 | Маска UT | ||||||
класс | PB | Пенсильвания | EB | Е.А. | ES | УНЦ | UB | UA |
Спецификация компакт-диска | >2.5 | 1,2 ~ 2,5 | >1.5 | 1,2 ~ 1,5 | <1.2 | >2 | 1,5 ~ 2,0 | <1.5 |
Толерантность | ±0.25 | ±0.2 | ±0.2 | ±0.15 | ±0.1 | ±0.25 | ±0.2 | ±0.15 |
единообразие | 0.3 | 0.3 | 0.3 | 0.25 | 0.2 | 0.25 | 0.2 | 0.15 |
Регистрация | ±0.8 | ±0.8 | ±0.2 | ±0.15 | ±0.1 | ±0.2 | ±0.15 | ±0.1 |
Размер дефекта | 2 | 2 | 1.5 | 1.5 | 1.0 | 2 | 1.5 | 1 |
Плотность дефекта (шт. / Дюйм2) | 2 | 1 | 2 | 1 | 0.5 | 0 | 0 | 0 |
Примечание:
Требование применимо к маске 1: 1, а уровень качества ранжируется от низкого к высокому;
Маска UT применима только к кварцевому материалу; обычная стеклянная маска применима к высшему уровню B.
№3 Заготовка для фотолитографии ПАМ200326-МАСХ
Стеклянная подложка:
Размер: 50x50 мм +/- 0,2 мм;
Толщина: 3,67 мм +/- 0,02 мм
Материал: КВАРЦ
Нет спец. на плоскостности: 1/4 ~ 1/2 длины волны
Без сколов по краям
Начальная подложка 7X7 дюймов X 150 мил
Стандартная бланк визирной сетки Покрытие 3.0 OD AR Chrome
№4 Фото-маска на кварце ПАМ200602-МАСХ
№ 4-1 Фото маска
Размер маски 5 "X5"
МАТЕРИАЛЫ ПОВЕРХНОСТИ МАСКИ: Кварц
Литография: электронный луч
Полярность маски: BF
Допуск функции: 0,02 мкм
Размер функции: 0,4 мкм
Точность: 0,12 мкм
Производственная сетка: 0,005 мкм, 0,02 мкм
№ 4-2 Фотомаска Бланк
Размер маски 5 "X5"
ОСНОВНЫЕ МАТЕРИАЛЫ МАСКИ Кварц
Литография: лазерная
Полярность маски: DF
Допуск функции: 0,5 мкм
Размер элемента: 10 мкм, 3 мкм или 5 мкм
Точность: 0,12 мкм
Производственная сетка: 0,02 мкм
№ 5 Кварц с LR хромом ПАМ200811-МАСХ
Размер маски = 5 ″ x 5 ″ x 0,09 ″.
Материал = кварц с LR хромом
Ориентация: RR вниз.
Data Dark.
Критический размер (CD): 4 мкм +/- 0,5 мкм (для всех масок)
Дефекты: 0> 5 мкм
Пожалуйста, обрати внимание:
Кварц с LR Chrome предназначен для изготовления выравнивателя маски (фотолитография NUV с длиной волны 350–450 нм);
Масштабирование данных для маски составляет 1:01, потому что выравниватель маски имеет масштаб 1: 1 вместо 5: 1;
Материал маски - кварц с LR Chrome, сторона с хромом обращена вниз (Real Read (RR) вниз);
При проектировании макета используется металлический слой № 28, а область металлического слоя в макетах дизайна должна быть хромированной на фото-маске.
Для получения дополнительной информации, пожалуйста, свяжитесь с нами по электронной почте по адресу victorchan@powerwaywafer.com и powerwaymaterial@gmail.com.