Заготовка для фотошаблона хрома

Заготовка для фотошаблона хрома

Доступна заготовка фотошаблона с антибликовым хромом. Фотошаблоны в основном используются в интегральных схемах, плоских дисплеях (включая LCD, LED, OLED), печатных платах и ​​других областях. Фотошаблон - это мастер выкройки используется в процессе фотолитографии в производстве микроэлектроники. Вот характеристики заготовки фото маски для справки:

Заготовка для фотошаблона хрома

№1 Фото маски ПАМ190302-МАСХ

№ 1-1 Кремниевые пластины со структурами ИС (ASIC11) в соответствии со стандартами проектирования 0,35 мкм;

№1-2 Кремниевые пластины со структурами ИС (ASIC12) в соответствии со стандартами проектирования 0,35 мкм;

Примечание:

Диаметр подложки> = 150мм. Тип / легирующая добавка, ориентация, толщина, удельное сопротивление, передняя поверхность, задняя поверхность, плоскость (и) определяются производителем для обеспечения требуемых параметров элементной базы (транзисторов, резисторов, конденсаторов), указанных в проектном комплекте. Производитель предоставляет Design Kit, подходящий для разработки топологии IC. Заказчик выполняет разработку в соответствии с Design Kit и передает информацию производителю в формате GDS. Производитель выпускает комплект фотошаблонов в соответствии с информацией в формате GDS. Изготовитель изготавливает пластины из набора фотошаблонов согласно требованиям Design Kit.

№ 1-3 Фотомаска Бланк

размер 152 х 152 х мм, масштаб 5: 1, предназначен для фотолитографии с расчетными нормами 0,35 мкм;

Основные требования к шаблону

Назначение: бинарные шаблоны для проекции ф / л

Размер подложки: 6 "x6" x0,25 ", кварц

Тип оборудования: 5x, NIKON NSR 2205i11D

Поле экспонирования: 110 мм x 110 мм

Пелликул: Да, NIK49P-122-1K17 / HFLC, односторонняя защита от хрома (двусторонняя защита по запросу)

Минимальный критический размер: 1,75 мкм

Воспроизводимость критических размеров: 0,05 мкм (3σ)

Точность регистрации (Регистрация): 0,1 мкм

Дефект: 0,1 / см2 (1 микрон)

№2 Фотоумаска хромовая на кварце ПАМ200313-МАСХ                         

№ 2-1 Наименее сложный: Strip & Ship;

CD> = 5 мкм;

Обширные открытые пространства; Сетка записи: стандартная

Материал: кварц, антибликовый хром. Нет пленки.    

№ 2-2 Умеренный:

Сетка 5x; 6 дюймов x 6 дюймов x 0,12 дюйма кварцевый;

Нет дефектов больше 2,5 мкм;

Дефект менее 1,25 мкм

CD> = 5 мкм; линии / пробелы / восьмиугольники;

Сетка записи: следует поддерживать компакт-диск

Материал: кварц, антибликовый хром. Нет пленки.                                                      

№ 2-3Самый сложный:

Сетка 5x; 6 дюймов x 6 дюймов x 0,12 дюйма кварцевый;

Отсутствие дефектов больше 1,25 мкм;

Дефект меньше 0,625 мкм

CD> = 2,5 мкм; линии / пробелы / восьмиугольники;

Сетка записи: следует поддерживать компакт-диск

Материал: кварц, антибликовый хром. Нет пленки.

В этих заготовках фотомаски не будет никакой пленки, а размер маски сетки будет 6 дюймов x 6 дюймов и 0,12 дюйма в толщину. Минимальные размеры элементов на масках - 2,5 и 5 мкм. Фотошаблон (сетка) предназначен для изготовления процесса литографии, который будет использоваться в шаговых машинах.

Технические параметры заготовки фотошаблона соответствуют требованиям таблиц 1 и 2.

Таблица 1 Параметры уровня качества фото-маски

класс D C B A S T U V W W + P X X + P Y Y + P Z Z + P
Толерантность ±0.3 ±0.3 ±0.2 ±0.15 ±0.1 ±0.1 ±0.05 ±0.04 ±0.035 ±0.035 ±0.032 ±0.032 ±0.028 ±0.028 ±0.022 ±0.022
Означает нацеливаться ±0.3 ±0.3 ±0.2 ±0.15 ±0.1 ±0.075 ±0.05 ±0.04 ±0.03 ±0.03 ±0.028 ±0.028 ±0.025 ±0.025 ±0.02 ±0.02
единообразие 0.2 0.2 0.2 0.15 0.1 0.075 0.05 0.04 0.035 0.035 0.035 0.035 0.03 0.03 0.025 0.025
Регистрация ±0.4 ±0.3 ±0.2 ±0.15 ±0.1 ±0.075 ±0.05 ±0.06 ±0.055 ±0.055 ±0.05 ±0.05 ±0.045 ±0.045 ±0.04 ±0.04
Размер дефекта 1.5 1.5 1 0.8 0.6 0.4 0.4 0.35 0.3 0.3 0.25 0.25 0.2 0.2 0.2 0.2
плотность дефектов 0 0 0 0 0 0 0 0 0 0 0 0 0 0 0 0
Краевой дефект / / / / / / / 0.3 0.3 0.3 0.25 0.25 0.2 0.2 0.2 0.2
Шероховатость кромки / / / / / / / 0.3 0.3 0.3 0.25 0.25 0.2 0.2 0.2 0.2
Закругление углов / / / / / / / 0.3 0.3 0.3 0.25 0.25 0.2 0.2 0.2 0.2
Фаза PSM / / / / / / / / / 180 ± 4 / 180 ± 3 / 180 ± 3 / 180 ± 3
ПСМ транс / / / / / / / / / 6 ± 0,4 / 6 ± 0,3 / 6 ± 0,3 / 6 ± 0,3

 

Примечание:

Параметры применимы к шкале сетки; уровень качества оценивается от низкого к высокому:

  • 0,5 мкм процесс поддерживает до уровня S; Процесс 0,35 мкм поддерживает до уровня U, процесс 0,18 мкм поддерживает до уровня X;
  • Обычная стеклянная маска применима только к классу D.
Таблица 2 Требования к качеству фотошаблона
  1: 1 основная маска Сканирование электронного луча 1: 1 Маска UT
класс PB Пенсильвания EB Е.А. ES УНЦ UB UA
Спецификация компакт-диска >2.5 1,2 ~ 2,5 >1.5 1,2 ~ 1,5 <1.2 >2 1,5 ~ 2,0 <1.5
Толерантность ±0.25 ±0.2 ±0.2 ±0.15 ±0.1 ±0.25 ±0.2 ±0.15
единообразие 0.3 0.3 0.3 0.25 0.2 0.25 0.2 0.15
Регистрация ±0.8 ±0.8 ±0.2 ±0.15 ±0.1 ±0.2 ±0.15 ±0.1
Размер дефекта 2 2 1.5 1.5 1.0 2 1.5 1
Плотность дефекта (шт. / Дюйм2) 2 1 2 1 0.5 0 0 0

 

Примечание:

Требование применимо к маске 1: 1, а уровень качества ранжируется от низкого к высокому;

Маска UT применима только к кварцевому материалу; обычная стеклянная маска применима к высшему уровню B.

№3 Заготовка для фотолитографии ПАМ200326-МАСХ

Стеклянная подложка:

Размер: 50x50 мм +/- 0,2 мм;

Толщина: 3,67 мм +/- 0,02 мм

Материал: КВАРЦ

Нет спец. на плоскостности: 1/4 ~ 1/2 длины волны

Без сколов по краям

Начальная подложка 7X7 дюймов X 150 мил

Стандартная бланк визирной сетки Покрытие 3.0 OD AR Chrome

№4 Фото-маска на кварце ПАМ200602-МАСХ

№ 4-1 Фото маска

Размер маски 5 "X5"

МАТЕРИАЛЫ ПОВЕРХНОСТИ МАСКИ: Кварц

Литография: электронный луч

Полярность маски: BF

Допуск функции: 0,02 мкм

Размер функции: 0,4 мкм

Точность: 0,12 мкм

Производственная сетка: 0,005 мкм, 0,02 мкм                       

№ 4-2 Фотомаска Бланк

Размер маски 5 "X5"

ОСНОВНЫЕ МАТЕРИАЛЫ МАСКИ Кварц

Литография: лазерная

Полярность маски: DF

Допуск функции: 0,5 мкм

Размер элемента: 10 мкм, 3 мкм или 5 мкм

Точность: 0,12 мкм

Производственная сетка: 0,02 мкм

№ 5 Кварц с LR хромом ПАМ200811-МАСХ

Размер маски = 5 ″ x 5 ″ x 0,09 ″.

Материал = кварц с LR хромом

Ориентация: RR вниз.

Data Dark.

Критический размер (CD): 4 мкм +/- 0,5 мкм (для всех масок)

Дефекты: 0> 5 мкм

Пожалуйста, обрати внимание:

Кварц с LR Chrome предназначен для изготовления выравнивателя маски (фотолитография NUV с длиной волны 350–450 нм);

Масштабирование данных для маски составляет 1:01, потому что выравниватель маски имеет масштаб 1: 1 вместо 5: 1;

Материал маски - кварц с LR Chrome, сторона с хромом обращена вниз (Real Read (RR) вниз);

При проектировании макета используется металлический слой № 28, а область металлического слоя в макетах дизайна должна быть хромированной на фото-маске.

powerwaywafer

Для получения дополнительной информации, пожалуйста, свяжитесь с нами по электронной почте по адресу [email protected] и [email protected].                                                                       

Поделиться этой записью