GaN / SiC НЕМТ эпи-вафель

GaN / SiC НЕМТ эпи-вафель

GaN / SiC НЕМТ эпи-вафель

PAM-XIAMEN предлагает эпи-пластины GaN/SiC HEMT

GaN на эпипластах SiC HEMT (PAM-101009-HEMT

1) 4-дюймовая подложка SiC
2) зародышевый слой
3) Буферный слой (GaN-канал, GaN-буфер) – 15000-20000 А
4) Барьерный слой (AlN) – 60-70А
5) Прокладка (GaN) – 10А
6) Слой SiN – 30А

Ожидаемые характеристики транзистора:
Мобильность: >=1200 см2/В*с
Напряжение пробоя:> = 80 В
Сопротивление: <= 300 Ом/кв.

Для получения дополнительной информации отправьте нам электронное письмо по адресуvictorchan@powerwaywafer.com

 

Поделиться этой записью