Характеристики усиления и фемтосекундный оптический импульсный отклик многослойных QD-SOA с полосой 1550 нм, выращенных на подложке InP(311)B

Характеристики усиления и фемтосекундный оптический импульсный отклик многослойных QD-SOA с полосой 1550 нм, выращенных на подложке InP(311)B

Характеристики усиления и фемтосекундный оптический импульсный отклик многослойных QD-SOA с полосой 1550 нм, выращенных на подложке InP(311)B

В этой статье мы продемонстрировали многослойные QD-SOA с полосой 155 нм, выращенные методом компенсации деформации наПодложка InP(311)Bи оценили основные характеристики усиления и фемтосекундную характеристику оптического импульса для применения в сверхбыстрых полностью оптических устройствах с логическими вентилями. Длина устройства составляла 1650 мкм, а максимальное усиление 35 дБ было получено при токе инжекции 500 мА. Мы также ввели два последовательных фемтосекундных дублированных импульса в QD-SOA, изменив длительность, и наблюдали выходные формы сигналов автокорреляции. В результате было оценено эффективное время перехода носителя порядка 1 пс.

  • QD-СОА;
  • 1550 нм-диапазон;
  • ИнП(311)Б;
  • Отклик фемтосекундного оптического импульса

ИСТОЧНИК: SCIENCEDIRECT

PAM-XIAMEN can supply InP (311) substrate with specification as following:

Material InP
Diameter 50.6±0.3mm
Thickness 350±25um
Orientation (311)0°
Growth Method VGF
Conductivity S-C-N
Dopant S
OF Location/Length EJ±0.5°/16±1mm
IF Location/Length EJ±0.5°/7±1mm
Ingot CC Min:2.00E+18/cm3       Max:8.00E+18/cm3
Resistivity Min:0.6E-03Ω.cm       Max:2.5E-03Ω.cm
Mobility Min:1000/cm2/V.s       Max:2000/cm2/V.s
EPD Ave:≤1000/cm2
TTV/TIR ≤10um
Bow ≤10um
Warp ≤15um
Edge Rounding 0.250mmR
Surface Finish-front Polished
Surface Finish-back Etched
Particle Count N/A
Epiready Yes
Laser Marking N/A

 

Для получения дополнительной информации, пожалуйста, свяжитесь с нами по электронной почте по адресуvictorchan@powerwaywafer.com и powerwaymaterial@gmail.com.

Поделиться этой записью