Фотолитографическая маска

Фотолитографическая маска

Продаются хромовые маски для фотолитографии. В зависимости от различных материалов подложки его можно разделить на кварцевую маску, натриевую маску и другие (включая рельефную пластину, пленку) и т. Д. Среди них фотомаска Маски для литографии на кварцевой подложке и натронной извести широко используются в университетах и ​​исследовательских институтах. Подробнее о технических характеристиках PAM-XIAMEN см. Ниже:

Фотолитографическая маска

Хромированная маска-бланк №1 PAM191218-MASKS

Характеристики подложки маски

Материал газировка со вкусом лайма
Размеры 3 ″ x3 ″
Толщина 0,060 дюйма ± 0,004 дюйма
ровность ≤ 15 ед.
Дефекты Ни один
Характеристики металлизации хрома
Толщина хромовой пленки 1100 А ± 10%
Оптическая плотность @ 530 нм 2,8 ± 0,2
Маска пластина класса Печать
Отверстие для штифта > 5 мкм нет, 1-5 мкм 0,3 / квадратный дюйм
Характеристики сопротивления
Оказывать сопротивление AZ1500
Толщина сопротивления 5300 А ± 150 А
Дефекты Ни один

 

Отметка:
Пластины Chrome Mask покрыты фоторезистом. Эти пластины-маски используются для создания рисунков с минимальными характеристиками до 0,5 микрон с использованием ЛАЗЕРНОЙ литографии и, следовательно, влажного / сухого травления.

№2 Маска для фотолитографии PAM190702-MASKL

Материал Маска для литографии 5 дюймов
Требования Фотошаблон для степпера (модель: 5009)

Модель литографической машины: ASML PA5000 / 50

Масштаб: 5: 1

Требования к индексу качества графики
Графическая точность 100%
CD 2um
Допуск компакт-дисков < 0,5 мкм
Плотность дефекта ≤1 шт.
Допуск гравировки < 0,5 мкм

 

№ 3 Маска для фотолитографии с хромированным рисунком PAM190621-MASKL

№ 3-1 Дизайн и печать масок для фотолитографии 4 ”
Размер маски: квадрат 4 x 4 дюйма
Материал маски: кварц
Материал рисунка: хром

Услуга включает разработку шаблона для процесса изготовления транзистора с высокой подвижностью электронов (HEMT) (6 шаблонов) и измерение линии передачи (TLM) для анализа специфического контактного сопротивления (2 шаблона)

4 рисунка на 1 маске (каждая на 1/4 площади маски) - всего 8 дизайнов

№ 3-2 Дизайн и печать масок для фотолитографии 5 ”
Размер маски: квадрат 5 дюймов x 5 дюймов
Материал маски: кварц
Материал рисунка: хром

Услуга, включающая разработку рисунка для сапфировой подложки с рисунком (PSS)

4 узора на 1 маске (каждая на 1/4 площади маски)

Пожалуйста, обратите внимание: Технические параметры двух вышеуказанных позиций соответствуют следующим требованиям:

Размеры маски (мм) Минимальная ширина шва и линии Точность шва Марк
101,6 * 101,6 * 2,3 3um≤W≤5um ± 0,3 мкм Кварцевый материал
127,0 * 127,0 * 2,3 3um≤W≤5um ± 0,3 мкм Кварцевый материал
101,6 * 101,6 * 3,0 3um≤W≤5um ± 0,3 мкм Кварцевый материал
127,0 * 127,0 * 3,0 3um≤W≤5um ± 0,3 мкм Кварцевый материал

 

№ 4 Фазовая маска PAM190717-MASKQ
Шаг: 1095,8 нм
Размер: 25 мм x 3 мм
Длина волны освещения 248нм
Размер подложки : 35 * 17,2 мм
Толщина фазовой маски: 1/4 дюйма (6,35 мм)

№ 5 Равномерная фазовая маска PAM190821-MASKJ
Равномерная фазовая маска для брэгговской решетки 1575 нм
Период шкалы: 1088 нм
Точность и однородность периода шкалы: +/- 0,01 нм
Размер решетки: 10 мм x 10 мм
Размер подложки: 30 мм x 25 мм
Оптимизирован для неполяризованного освещения 248 нм
0. заказ: <3%

Для получения дополнительной информации, пожалуйста, свяжитесь с нами по электронной почте по адресу [email protected] и [email protected].

Поделиться этой записью