Stabilitet, elektronisk struktur och potential som spin Qubits av syrerelaterade defekter i 4H-SiC +
PAM-XIAMEN kan tillhandahålla ledande och halvisolerande 4H-SiC-skivor, såväl som skärnings- och beläggningstjänster. För detaljer, vänligen kontakta på[email protected]
4H-SiC har visat stor potential inom kvantteknologi tack vare dess mogna kristalltillväxtteknologi, kontrollerbar n-typ och p-typ dopning och mikronano-bearbetningsförmåga. I likhet med diamant kan punktdefekterna som finns i 4H-SiC fungera som spin-qubits och möjliggöra spin-fotongränssnitt för applikationer inom kvantberäkning, kryptografi och avkänning. Bland många defekter har syrerelaterade defekter återfått forskningsintresset de senaste åren på grund av deras unika elektroniska struktur och optiska egenskaper.
1. Klassificering och stabilitet av syredefekter i 4H-SiC
Enligt Iwamoto et al.s forskning kan syrerelaterade defekter i 4H–SiC delas in i fyra kategorier:
Grupp-I: Alternativa syredefekter (som OC, OSi, OCOSi)
Grupp II: Oxygen gap defekter (Oi,1, Oi,2)
Grupp III: Vakanskomplex för syre (som OCVSi, OSiVC)
Grupp IV: Alternativa syrekolkomplex (som OCCSi)
Under förhållanden av n-typ är de tre mest stabila defekterna:
Oi,1(Trippelkoordination, bunden till tre Si-atomer)
OC(fyrdubbel koordination, C3vsymmetri)
OCVSi(vakanskomplex för syrekisel)
Bland dem är bildningsenergin för OCVSiär relativt låg, särskilt under n-typ förhållanden, är den lätt att bilda och finns stabil, vilket är i fokus för efterföljande forskning.
2. Bildning och upptäckt av syredefekter i 4H-SiC
OCVSidefekter kan bildas i 4H-SiC genom syrejonimplantation och efterföljande glödgning. Om Fermi-nivån regleras till området EV+0,96-2,07eV genom Schottky-kontakt, OCVSikan bibehålla S=1-spinntillståndet, medan Oi,1, och OChar inget spinn, vilket undertrycker spindekoherens.
OIII-Ovdjupa energinivåer som upptäcktes i tidiga DLTS-mätningar låg inom intervallet för (-1/-2) acceptorenerginivåerna (EV+2,40-2,52eV) för OCVSi, och den observerade OIII-OVsignal kan vara relaterad till defekter i OCVSi. Dessutom har DJagseriedefekter som observerades i experimentet (ZPL≈1,23 eV) överensstämmer i hög grad med det teoretiskt förutspådda OCVSiZPL-energi, vilket indikerar att denna defekt kan ha observerats i experimentet.

Fig. 1 Bildningsenergier för syrerelaterade defekter i 4H-SiC under (a), (b) Si-rika och (c), (d) C-rika förhållanden
3. Struktur och elektroniska egenskaper hos OCVSiDefekter
Kobayashi et al. genomförde en detaljerad studie om OCVSidefekter. Denna defekt uppvisar C3vsymmetri i alla fyra gitterkonfigurationerna av kk, hh, hk och kh, med syreatomer placerade på symmetriaxeln för tre kolatomer, vilket bildar tre lika långa Si-O-bindningar (bindningslängd på cirka 1,83 Å).

Fig. 2 Optimerad 4H-SiC-syredefektstruktur
Denna defekt har ett grundtillstånd med hög spinn (S=1) i det neutrala laddningstillståndet (q=0), med spinn huvudsakligen lokaliserad till de hängande bindningsorbitalerna för tre kolatomer. I dess energinivådiagram för en enda partikel är energigapet mellan den högsta ockuperade molekylära orbitalen (HOMO) och den lägsta obesatta molekylomloppsbanan (LUMO) 1,61-1,80 eV, något högre än den faktiska optiska övergångsenergin.

Fig. 3 Energinivåer för enstaka partiklar av OCVSi0defekter i 4H-SiC
4. Optiska egenskaper och nära-infraröd emission av syredefekter
Genom att använda Constrained Occupancy Method (ASCF), noll phonon line (ZPL) energi för OCVSi0beräknas vara mellan 1,11-1,24eV, motsvarande en våglängd på 1004-1117nm, som tillhör det nära-infraröda bandet.

Fig. 4 PL-spektra av OCVSi0defekter med kk-konfiguration i 4H-SiC
Dessutom är strålningslivslängden för denna defekt extremt kort (12,5 ns i kk-läge), jämförbar med diamant NV-center och VSidefekter i SiC. Mer anmärkningsvärt är att dess Debye Waller-faktor är så hög som 13,4 %, vilket indikerar att ZPL dominerar fotoluminescensspektrumet och är lämplig som en effektiv kvantljuskälla.
5. Spinegenskaper för syredefekter och kvantbitpotential
Grundtillståndsspinnet för OCVSi0är S=1, med uppenbar nollfältsdelning (ZFS). Den axiella komponenten D är mellan 1,61-1,74 GHz, och den tvärgående komponenten E är icke-noll i lågsymmetrikonfigurationer. Dessutom visar den hyperfina kopplingskonstanten betydande interaktioner med omgivningens spinn13C,29Si, och17O kärnor, som kan användas för spinnmanipulation och igenkänning.
Strukturen, bildningsenergin, spinn och optiska egenskaper hos olika syrerelaterade defekter i 4H-SiC studerades systematiskt genom första principberäkningar. Bland dem OCVSidefekter har låg formationsenergi, högt spinngrundtillstånd (S=1), nära-infraröd ZPL-emission, kort strålningslivslängd och hög Debye Waller-faktor under n-typsförhållanden, vilket gör dem till en mycket lovande kandidatdefekt för spinnfotongränssnitt. I framtiden, genom syreinjektion och bandreglering, förväntas det uppnå sin tillämpning i kvantenheter.
Oavsett om du behöver 4H-SiC wafer för forskning eller industriella tillämpningar, vänligen kontakta oss via e-post på[email protected] och [email protected].
Referenser:
- Iwamoto, S., Shimura, T., Watanabe, H., & Kobayashi, T. (2024). Syrerelaterade defekter i 4H-SiC från första principer. Applied Physics Express, 17(5), 051008.
- Kobayashi, T., Shimura, T., & Watanabe, H. (2023). Syre-vakansdefekt i 4H-SiC som en nära-infraröd emitter: En ab initio studie. Journal of Applied Physics, 134(14).
