Epi Wafer for Laser Diode
Tấm wafer epitaxis LD dựa trên GaAs, có thể tạo ra phát xạ kích thích, được sử dụng rộng rãi để chế tạo diode laser vì đặc tính wafer epiticular GaAs vượt trội giúp thiết bị tiêu thụ năng lượng thấp, hiệu suất cao, tuổi thọ cao, v.v. Ngoài wafer gallium arsenide LD epi , vật liệu bán dẫn thường được sử dụng là cadmium sulfide (CdS), indium phosphide (InP) và kẽm sulfide (ZnS).
- Description
Sự miêu tả
Xiamen Powerway Advanced Material Co., Ltd (PAM-XIAMEN), nhà cung cấp tấm wafer epiticular LD, tập trung vào các tấm epi diode laser dựa trên GaAs và InP được phát triển bởi lò phản ứng MOCVD để truyền thông cáp quang, ứng dụng công nghiệp và sử dụng cho mục đích đặc biệt. PAM-XIAMEN có thể cung cấp tấm wafer epit Wax LD dựa trên chất nền GaAs cho nhiều lĩnh vực khác nhau, như VCSEL, hồng ngoại, máy dò ảnh, v.v. Thông tin chi tiết về vật liệu wafer epit Wafer LD, vui lòng tham khảo bảng bên dưới:
| Vật liệu nền | Khả năng vật liệu | Bước sóng | Ứng dụng |
| GaAs | GaAs/GalnP/AlGaInP/GaInP | 635nm | |
| GaAs dựa trên Epi-wafer | 650nm | Laser phát ra bề mặt khoang dọc (VCSEL) RCLED |
|
| GaAs/GalnP/AlGaInP/GaInP | 660nm | ||
| GaAs/AlGaAs/GalnP/AlGaAs/GaAs | 703nm | ||
| GaAs/GalnP/AlGaInP/GaInP | 780nm | ||
| GaAs/GalnP/AlGaInP/GaInP | 785nm | ||
| GaAs dựa trên Epi-wafer | 800-1064nm | LD hồng ngoại | |
| GaAs/GalnP/AlGaInP/GaInP | 808nm | LD hồng ngoại | |
| GaAs dựa trên Epi-wafer | 850nm | Laser phát ra bề mặt khoang dọc (VCSEL) RCLED |
|
| GaAs dựa trên Epi-wafer | <870nm | máy dò ảnh | |
| GaAs dựa trên Epi-wafer | 850-1100nm | Laser phát ra bề mặt khoang dọc (VCSEL) RCLED |
|
| GaAs/AlGaAs/GaInAs/AlGaAs/GaAs | 905nm | ||
| GaAs/AlGaAs/InGaAs/AlGaAs/GaAs | 950nm | ||
| GaAs dựa trên Epi-wafer | 980nm | LD hồng ngoại | |
| Epi-wafer dựa trên InP | 1250-1600nm | Máy dò ảnh tuyết lở | |
| GaAs dựa trên Epi-wafer | 1250-1600nm/>2.0um (Lớp hấp thụ InGaAs) |
máy dò ảnh | |
| GaAs dựa trên Epi-wafer | 1250-1600nm/<1.4μm (Lớp hấp thụ InGaAsP) |
máy dò ảnh | |
| Epi-wafer dựa trên InP | 1270-1630nm | DFB Laser | |
| Chất nền GaAsP/GaAs/GaAs | 1300nm | ||
| Epi-wafer dựa trên InP | 1310nm | FP tia laser | |
| Chất nền GaAsP/GaAs/GaAs | 1550nm | FP tia laser | |
| 1654nm | |||
| Epi-wafer dựa trên InP | 1900nm | FP tia laser | |
| 2004nm |
Giới thiệu về ứng dụng và thị trường wafer LD Epitaxy
Các ứng dụng của wafer epitaxy LD dựa trên GaAs trong trường laser có thể được chia thành VCSEL và không phải VCSEL. Các ứng dụng epit Wax LD dựa trên GaAs hiện nay chủ yếu nằm ở VCSEL. VCSEL (Laser phát ra bề mặt khoang dọc), dựa trên vật liệu GaAs, chủ yếu được sử dụng để nhận dạng khuôn mặt. Dự kiến sẽ có tốc độ tăng trưởng cao trong thời gian tới. EEL (Edge Emit Laser) là thiết bị không phải VCSEL, chủ yếu được sử dụng trong lĩnh vực lidar ô tô và nhu cầu dự kiến sẽ tăng lên cùng với sự mở rộng của thị trường ô tô không người lái.
Chất nền GaAs được sử dụng trong lĩnh vực laser đòi hỏi các chỉ số kỹ thuật cao và giá wafer epiticular đơn vị cao hơn đáng kể so với các lĩnh vực khác. Không gian thị trường epiticular LD trong tương lai có thể được mong đợi. Các ứng dụng laser nhạy cảm nhất với mật độ trật khớp. Có yêu cầu cao đối với vật liệu nền GaAs trong các ứng dụng laser. Do đó, yêu cầu cao hơn được đặt ra đối với các nhà sản xuất tấm wafer epiticular LD và quy trình wafer epiticular LD. Hiện nay, laser bán dẫn dải hồng ngoại gần (760 ~ 1060nm) dựa trên chất nền GaAs có sự phát triển trưởng thành nhất và ứng dụng rộng rãi nhất và nó đã được thương mại hóa.
Nhận xét:
Chính phủ Trung Quốc đã công bố các giới hạn mới đối với việc xuất khẩu vật liệu Gallium (như GaAs, GaN, Ga2O3, GaP, InGaAs và GaSb) và vật liệu Germanium dùng để sản xuất chip bán dẫn. Bắt đầu từ ngày 1 tháng 8 năm 2023, chúng tôi chỉ được phép xuất khẩu những nguyên liệu này nếu có giấy phép của Bộ Thương mại Trung Quốc. Rất mong sự thông cảm và hợp tác của bạn!
Vui lòng xem thông số kỹ thuật chi tiết bên dưới của wafer epitaxy LD:
Tấm wafer Laser công suất cao 1060nm
Bánh wafer điốt laser bơm 1460nm
GaAs Epitaxy với sự tăng trưởng dày
Cấu trúc Epi dựa trên GaAs MOCVD được phát triển cho bộ phát ánh sáng
Lượng tử InGaAsP thu hẹp được phát triển tốt trên wafer InP
Lớp chấm lượng tử InAs trên chất nền InP
Tấm wafer Laser FP (Fabry-Perot)
Chip phát đơn
PAM XIAMEN cung cấp chip đơn laser công suất cao 1470 / 1550nm như sau:
LD trần thanh
Thanh trần LD cho 780nm@cavity 2,5mm
Thanh trần LD cho 808nm@cavity 2 mm
Thanh trần LD cho 808nm@cavity 1,5mm
Thanh trần LD cho 880nm@cavity 2mm
Thanh trần LD cho 940nm@cavity 2 mm
Thanh trần LD cho 940nm@cavity 3 mm
Thanh trần LD cho 940nm@cavity 4mm
Thanh trần LD cho 940nm@cavity 2 mm
Thanh trần LD cho 976nm@cavity 4mm

