Epi Wafer for Laser Diode

Tấm wafer epitaxis LD dựa trên GaAs, có thể tạo ra phát xạ kích thích, được sử dụng rộng rãi để chế tạo diode laser vì đặc tính wafer epiticular GaAs vượt trội giúp thiết bị tiêu thụ năng lượng thấp, hiệu suất cao, tuổi thọ cao, v.v. Ngoài wafer gallium arsenide LD epi , vật liệu bán dẫn thường được sử dụng là cadmium sulfide (CdS), indium phosphide (InP) và kẽm sulfide (ZnS).

Sự miêu tả

Xiamen Powerway Advanced Material Co., Ltd (PAM-XIAMEN), nhà cung cấp tấm wafer epiticular LD, tập trung vào các tấm epi diode laser dựa trên GaAs và InP được phát triển bởi lò phản ứng MOCVD để truyền thông cáp quang, ứng dụng công nghiệp và sử dụng cho mục đích đặc biệt. PAM-XIAMEN có thể cung cấp tấm wafer epit Wax LD dựa trên chất nền GaAs cho nhiều lĩnh vực khác nhau, như VCSEL, hồng ngoại, máy dò ảnh, v.v. Thông tin chi tiết về vật liệu wafer epit Wafer LD, vui lòng tham khảo bảng bên dưới:

Vật liệu nền Khả năng vật liệu Bước sóng Ứng dụng
GaAs GaAs/GalnP/AlGaInP/GaInP 635nm  
GaAs dựa trên Epi-wafer 650nm Laser phát ra bề mặt khoang dọc (VCSEL)
RCLED
GaAs/GalnP/AlGaInP/GaInP 660nm  
GaAs/AlGaAs/GalnP/AlGaAs/GaAs 703nm  
GaAs/GalnP/AlGaInP/GaInP 780nm  
GaAs/GalnP/AlGaInP/GaInP 785nm  
GaAs dựa trên Epi-wafer 800-1064nm LD hồng ngoại
GaAs/GalnP/AlGaInP/GaInP 808nm LD hồng ngoại
GaAs dựa trên Epi-wafer 850nm Laser phát ra bề mặt khoang dọc (VCSEL)
RCLED
GaAs dựa trên Epi-wafer <870nm máy dò ảnh
GaAs dựa trên Epi-wafer 850-1100nm Laser phát ra bề mặt khoang dọc (VCSEL)
RCLED
GaAs/AlGaAs/GaInAs/AlGaAs/GaAs 905nm  
GaAs/AlGaAs/InGaAs/AlGaAs/GaAs 950nm  
GaAs dựa trên Epi-wafer 980nm LD hồng ngoại
Epi-wafer dựa trên InP 1250-1600nm Máy dò ảnh tuyết lở
GaAs dựa trên Epi-wafer 1250-1600nm/>2.0um
(Lớp hấp thụ InGaAs)
máy dò ảnh
GaAs dựa trên Epi-wafer 1250-1600nm/<1.4μm
(Lớp hấp thụ InGaAsP)
máy dò ảnh
Epi-wafer dựa trên InP 1270-1630nm DFB Laser
Chất nền GaAsP/GaAs/GaAs 1300nm  
Epi-wafer dựa trên InP 1310nm FP tia laser
Chất nền GaAsP/GaAs/GaAs 1550nm FP tia laser
  1654nm  
Epi-wafer dựa trên InP 1900nm FP tia laser
  2004nm  

 

Giới thiệu về ứng dụng và thị trường wafer LD Epitaxy

Các ứng dụng của wafer epitaxy LD dựa trên GaAs trong trường laser có thể được chia thành VCSEL và không phải VCSEL. Các ứng dụng epit Wax LD dựa trên GaAs hiện nay chủ yếu nằm ở VCSEL. VCSEL (Laser phát ra bề mặt khoang dọc), dựa trên vật liệu GaAs, chủ yếu được sử dụng để nhận dạng khuôn mặt. Dự kiến ​​sẽ có tốc độ tăng trưởng cao trong thời gian tới. EEL (Edge Emit Laser) là thiết bị không phải VCSEL, chủ yếu được sử dụng trong lĩnh vực lidar ô tô và nhu cầu dự kiến ​​sẽ tăng lên cùng với sự mở rộng của thị trường ô tô không người lái.

Chất nền GaAs được sử dụng trong lĩnh vực laser đòi hỏi các chỉ số kỹ thuật cao và giá wafer epiticular đơn vị cao hơn đáng kể so với các lĩnh vực khác. Không gian thị trường epiticular LD trong tương lai có thể được mong đợi. Các ứng dụng laser nhạy cảm nhất với mật độ trật khớp. Có yêu cầu cao đối với vật liệu nền GaAs trong các ứng dụng laser. Do đó, yêu cầu cao hơn được đặt ra đối với các nhà sản xuất tấm wafer epiticular LD và quy trình wafer epiticular LD. Hiện nay, laser bán dẫn dải hồng ngoại gần (760 ~ 1060nm) dựa trên chất nền GaAs có sự phát triển trưởng thành nhất và ứng dụng rộng rãi nhất và nó đã được thương mại hóa.

 

Nhận xét:
Chính phủ Trung Quốc đã công bố các giới hạn mới đối với việc xuất khẩu vật liệu Gallium (như GaAs, GaN, Ga2O3, GaP, InGaAs và GaSb) và vật liệu Germanium dùng để sản xuất chip bán dẫn. Bắt đầu từ ngày 1 tháng 8 năm 2023, chúng tôi chỉ được phép xuất khẩu những nguyên liệu này nếu có giấy phép của Bộ Thương mại Trung Quốc. Rất mong sự thông cảm và hợp tác của bạn!

Vui lòng xem thông số kỹ thuật chi tiết bên dưới của wafer epitaxy LD:

Chip wafer laser VCSEL

Tấm wafer Epi Laser của VCSEL

wafer đi-ốt laser 703nm

Đi-ốt laser 808nm epi wafer-1

wafer đi-ốt laser 780nm

wafer đi-ốt laser 650nm

wafer đi-ốt laser 785nm

Đi-ốt laser 808nm epi wafer-2

wafer đi-ốt laser 850nm

wafer đi-ốt laser 905nm

wafer đi-ốt laze 940nm

wafer đi-ốt laser 950nm

Tấm wafer Laser công suất cao 1060nm

Tấm wafer điốt laze 1300nm

Bánh wafer điốt laser bơm 1460nm

wafer đi-ốt laser 1550nm

wafer đi-ốt laser 1654nm

wafer đi-ốt laser 2004nm

GaAs Epitaxy với sự tăng trưởng dày

Cấu trúc Epi dựa trên GaAs MOCVD được phát triển cho bộ phát ánh sáng

Lượng tử InGaAsP thu hẹp được phát triển tốt trên wafer InP

Lớp chấm lượng tử InAs trên chất nền InP

Tấm wafer Laser FP (Fabry-Perot)

bánh xốp PCSEL

Tấm wafer Laser tầng lượng tử

 

Chip phát đơn

Chip LD phát đơn 755nm @8W

Chip LD phát đơn 808nm @8W

Chip LD phát đơn 808nm @10W

Chip LD phát đơn 830nm @2W

Chip LD phát đơn 880nm @8W

Chip LD phát đơn 900+nm @10W

Chip LD phát đơn 900+nm @15W

Chip LD phát đơn 905nm @25W

Chip LD phát đơn 1470nm @3W

PAM XIAMEN cung cấp chip đơn laser công suất cao 1470 / 1550nm như sau:

LD trần thanh

Thanh trần LD cho 780nm@cavity 2,5mm

Thanh trần LD cho 808nm@cavity 2 mm

Thanh trần LD cho 808nm@cavity 1,5mm

Thanh trần LD cho 880nm@cavity 2mm

Thanh trần LD cho 940nm@cavity 2 mm

Thanh trần LD cho 940nm@cavity 3 mm

Thanh trần LD cho 940nm@cavity 4mm

Thanh trần LD cho 940nm@cavity 2 mm

Thanh trần LD cho 976nm@cavity 4mm

Thanh trần LD cho 1470nm@cavity 2mm

Thanh trần LD cho 1550nm@cavity 2 mm