PAM XIAMEN oferece Cu de silício revestido.

Cu Film on Silicon Wafer, 4 ", de 400 nm de espessura, - Cu-Ti em Si-4-400nm
Cu Film on Ta / Silicon Wafer, 4 ", de 100 nm de espessura, - Cu-Ta-Si-4-100nm
Cu película no Ta / óxido térmico / Silício bolacha, 4 ", 400 nm de espessura, - Cu-Ta-SiO 2 / Si-4-400nm
Cu Filme em Ti / Silício bolacha, 4 ", Cu = 100 nm Ti = 20nm ,, Si (100) dopado-B, 4" x0.525mm, R: 1-20 ohm.cm, 1SP
Cu Film Revestido em Ta / SiO2 / Si Wafer 4 ", de 100 nm de espessura, - Cu-SiO2-Si-4-100n
Cu película no Ta / Silício da bolacha, em 10 mm x 5 mm, 100 nm de espessura,
Cu Film on Ta / Silicon Wafer, 10x10mm, 100 nm de espessura, - Cu-Ta-Si-1010
Cu película no Ta / Silício da bolacha, em 5 mm x 5 mm, 100 nm de espessura,
Cu Film Revestido em Ta / SiO2 / Si 10x10x0.5mm Wafer, 100 nm de espessura, - Cu-SiO2-Si-1010
Cu Filme revestido sobre Ta / SiO2 / 10x10x0.5mm bolacha de Si, 400 nm de espessura, - Cu-Ta-SiO2-Si-1010-400 nm
Cu Filme revestido sobre Ta / SiO2 / 5x5x0.5mm bolacha de Si, 400 nm de espessura, - Cu-Ta-SiO2-Si-1010-400 nm

Para mais informações, por favor visite nosso website: https://www.powerwaywafer.com,
envie-nos e-mail em sales@powerwaywafer.com e powerwaymaterial@gmail.com

Encontrado em 1990, Xiamen Powerway avançada Material Co., Ltd. (PAM-XIAMEN) é um dos principais fabricantes de material semicondutor na China. PAM-XIAMEN desenvolve crescimento avançado cristal e tecnologias de epitaxia, processos de fabrico, os substratos modificados e dispositivos semicondutores. tecnologias do PAM, Xiamen permitem maior desempenho e menor fabricação custo de wafer semicondutores.

Nosso objetivo é satisfazer todas as suas necessidades, não importa quão pequenas encomendas e como perguntas difíceis que sejam,
para manter o crescimento sustentado e rentável para cada cliente através de nossos produtos qualificados e serviço satisfatório.