Os lasers semicondutores na faixa do infravermelho próximo (760-1060nm) baseados em substratos de GaAs são os mais maduros e amplamente utilizados, e já foram comercializados.Podemos fornecer wafer de diodo laser GaAs para um comprimento de onda de 940nm. Além disso, uma variedade de wafers de laser com diferentes comprimentos de onda podem ser oferecidos, mais consultehttps://www.powerwaywafer.com/gaas-wafers/epi-wafer-for-laser-diode.

Estudos teóricos e experimentais descobriram que, ajustando a composição e a espessura de cada camada, o comprimento de onda do laser de poço quântico InGaAs/AlGaAs pode cobrir a faixa de 900-1300nm. Isso não apenas preenche a lacuna de lasers de GaAs e lasers de InP nesta banda, mas também promove muito o desenvolvimento de lasers e outras indústrias relacionadas. Mais especificações do wafer epi de diodo laser GaAs, consulte a tabela abaixo:

1. Estrutura epitaxial de diodo laser de 940nm InGaAs/GaAs

2. Por que usar o sistema de materiais InGaAs/GaAs para fabricar diodo laser?

A fim de realizar o comprimento de onda do diodo laser GaAs de 940nm, uma vez que sua energia de transição é de cerca de 1,319eV, que é muito menor do que o gap de GaAs, a correspondência usual GaAs/AlGaAs (λ=0,7-0,9um) e InGaAsP/InP (λ=1,1-1,65um) é difícil de alcançar. O comprimento de onda de emissão do material InGaAs pode estar entre 0,9-1,1um. No entanto, nenhum dos compostos binários tem um substrato que corresponda à sua rede. Para crescer em um substrato de GaAs, é necessária uma incompatibilidade de rede de cerca de 3%. Se a camada de crescimento epitaxial for suficientemente fina, a tensão devido ao desajuste da rede pode ser suportada pela deformação elástica da camada de crescimento sem produzir defeitos ou deslocamentos causados ​​por tensão excessiva.

Os lasers de poços quânticos tensionados com InGaAs/GaAs não sofrem falhas repentinas associadas a defeitos de linha escura e exibem uma vida útil mais longa do que os lasers semicondutores AlGaAs/GaAs. O defeito de linha escura <100> tem uma alta taxa de crescimento em lasers de poços quânticos de GaAs, mas é suprimido em lasers de poços quânticos de InGaAs. A razão para isso é que, como os átomos de In são maiores que os átomos de Ga, Al e As, a propagação de defeitos é dificultada e atua como um agente de pinçamento de discordâncias. Além disso, em comparação com o laser de GaAs/AlGaAs, a energia liberada pela recombinação radiativa e não radiativa no laser de poço quântico de InGaAs é menor; a interface InGaAs/GaAs tem menos centros de recombinação não radiativa do que a interface AlGaAs/GaAs. O substrato de GaAs é transparente a um comprimento de onda de 940 nm, reduzindo assim a taxa de reações de defeitos devido ao aprimoramento de recombinação, como difusão, dissociação e aniquilação. Assim, o poço quântico da estirpe InGaAs tem melhor confiabilidade para o laser de arsenieto de gálio epitaxial.

Because GaAs laser 940nmn adopts the important energy band engineering of semiconductor materials, not only the performance of semiconductor lasers has been further improved and improved, such as lower threshold current density, higher gain coefficient, and lower temperature sensitivity , more suitable for making high-power and long-life lasers, etc. Meanwhile, since the emission wavelength range of InGaAs/GaAs material system is 0.9-1.1um, it fills the emission wavelength blind area of matching GaAs/AlGaAs and InGaAsP/InP materials. Gallium arsenide semiconductor laser grown InGaAs as active layer has wider and more important application prospects in communication, medical and other fields.

Remark：
The Chinese government has announced new limits on the exportation of Gallium materials (such as GaAs, GaN, Ga2O3, GaP, InGaAs, and GaSb) and Germanium materials used to make semiconductor chips. Starting from August 1, 2023, exporting these materials is only allowed if we obtains a license from the Chinese Ministry of Commerce. Hope for your understanding and cooperation!

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