Cellules solaires à triple jonction

Cellules solaires à triple jonction

Nous utilisons des cellules à triple jonction GaInP/GaAs/Ge fabriquées par une technique MOCVD et constituées de matériaux composés III-V de haute qualité qui offrent un rendement considérablement élevé. Par rapport aux cellules solaires conventionnelles, les cellules solaires multi-jonctions sont plus efficaces mais aussi plus coûteuses à fabriquer. Les cellules à triple jonction sont plus rentables. Ils sont utilisés dans les applications spatiales. Et maintenant, nous proposons une structure de plaquette épi GaInP/GaAs/Ge comme suit :

1. Spécification de la plaquette GaInP/GaAs/Ge Epi

        Épaisseur (euh)    
Couche Matériel Taupe Taupe Taper Niveau CV (cm-3)
    Fraction (x) Fraction (y)    
15 Gain(x)As 0.016   0.2 N >5.00e18
14 Al(x)InP     0.04 N 5h00E+17
13 Gain(x)P     0.1 N 2h00E+18
12 Gain(x)P     0.5 P  
11 AlIn(x)P     0.1 P  
10 Al(x)GaAs     0.015 P  
9 AsGa     0.015 N  
8 Gain(x)P 0.554   0.1 N  
7 Gain(x)As 0.016   0.1 N  
6 Gain(x)As 0.016   3 P 1-2e17
5 Gain(x)P 0.554   0.1 P 1-2e18
4 Al(x)GaAs 0.4   0.03 P 5h00E+19
3 AsGa     0.03 N 2h00E+19
2 Gain(x)As 0.016   0.5 N 2h00E+18
1 Gain(x)P 0.554   0.06 N  

 

Nous proposons également des plaquettes épi de cellules solaires InGaP/GaAs à simple et double jonction, avec différentes structures de couches épitaxiales (AlGaAs, InGaP) cultivées sur GaAs pour les applications de cellules solaires, veuillez cliquer surPlaquette Epi InGaP/GaAs pour cellule solaire

2. DRX de GaInP/GaAs/Ge Wafer

Les figures a, b montrent la DRX de la qualité cristalline de la tranche GaInP/GaAs/Ge.

a.

Preuve XRD de qualité cristalline pour GaInP/GaAs/Ge Wafer

b.

Preuve XRD de la qualité cristalline pour GaInP/GaAs/Ge Wafer-2

 

SOURCE : PAM-XIAMEN

Pour plus d'informations, veuillez nous contacter par email àvictorchan@powerwaywafer.cometpowerwaymaterial@gmail.com.

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