2009 års arbete

Vilka vi är

Före 1990, vi anges ägs kondenserade materiens fysik forskningscentret. I 1990, lanserade centrum Xiamen Powerway Advanced Material Co, Ltd (PAM-XIAMEN), är det nu en ledande tillverkare av sammansatta halvledarmaterial i Kina. PAM-XIAMEN utvecklar avancerad kristalltillväxt och epitaxi teknik, sträcker sig från den första generationen Germanium wafer, andra generationen galliumarsenid med substrat tillväxt och epitaxi på ...

Läs mer ...

varför välja oss

null

Bra försäljning service

Vårt mål är att uppfylla alla dina krav, oavsett hur små beställningar och hur svårt frågor de än må vara, att upprätthålla uthållig och lönsam tillväxt för varje kund genom våra kvalificerade produkter och tillfredsställande service.
null

25 + år Erfarenheter

Med mer än 25 + års erfarenhet i förening halvledarmaterial fält och export företag, kan vårt team försäkra er om att vi kan förstå dina behov och ta itu med ditt projekt professionellt.
null

tillförlitlig kvalitet

Kvalitet är vår första prioritet. PAM-XIAMEN har ISO9001: 2008, äger och aktier fyra moderna facories som kan ge ganska stort utbud av kvalificerade produkter för att möta olika behov hos våra kunder, och varje order måste hanteras genom vårt rigorösa kvalitetssystem. Testrapport för varje sändning, och varje wafer är garanti.
null

Fri och professionell Technology Support

Du kan få vår IT-tjänster från förfrågan till efter service baserad på våra 25+ erfarenheter inom halvledar linje.
Efter mer än 20 år av anhopning och utveckling, vårt företag har en uppenbar fördel i tekniska innovationer och talangpool.
I framtiden måste vi öka takten faktiska åtgärder för att förse kunderna med bättre produkter och tjänster

Doktor Chan - VD för Xiamen Powerway Advanced Materials Co, Ltd

Världens mest kända universitet och företag litar på oss

Partners
FRAUNHOFER
SKARP
SBIR STTR
OSRAM
KRAFTINFORMATIONER
ibm LOGO

Senaste Nyheter

GaN tunn film på safir (Al2O3) mall

Epitaxial GaN template grown on Al2O3 (sapphire) substrate and customizable stacks are available with high quality and low defect [...]

2022-01-19
Tillväxt av GaAsSb / InGaAs Typ-II supergitter

GaAsSb / InGaAs / InP heterostructure is provided by epi-structure MBE grower PAM-XIAMEN for optical sensor fabrication. The gallium [...]

2022-01-18
GaN LED Structure Epitaxi på platt eller PSS safirsubstrat

GaN LED structure grown on nano-scale patterned sapphire (Al2O3) substrate can be provided with high efficiency of photoluminescence and [...]

2022-01-06
GaAs-baserad Epi Structure MOCVD Grown for Light Emitter

High quality GaAs based epistructures from PAM-XIAMEN – one of leading epitaxial wafer manufacturers are provided for the research, [...]

2021-12-30
P-typdopning av Mg i GaN tunnfilmsepitaxi på GaN-substrat

P-type GaN thin film epitaxial on GaN substrate is the main technique for developing emitting device. Mg is the [...]

2021-12-23
Nanoskala V-formade gropar i InGaN / GaN Multiquantum Wells

GaN-based light-emitting diode (LED) solid-state lighting has become the most important lighting technology in recent years because it has [...]

2021-12-22
Bildning av V-formade gropar i nitridfilmer odlade genom metallorganisk kemisk ångavsättning

Hyung Koun Cho∗ Department of Metallurgical Engineering, Dong-A University, Busan    604-714 Jeong Yong Lee Department of Materials Science and Engineering, Korea Advanced Institute [...]

2021-12-22
GaAs pHEMT Epi Wafer

PAM-XIAMEN can offer AlGaAs / GaAs p-HEMT (pseudomorphic high electron mobility transistor) heterostructure epitaxial wafer grown by MBE or [...]

2021-12-07
Vanliga frågor
Galliumarsenid wafers, P / P

Fråga: Låt oss veta om du kunde leverera under rånet, st 25/50/300. Gallium arsenid wafers, P / P 150,00 ± 0,25 mm) 6 "Diam × 650 ± 25 ^ m, VGF SI odopade GaAs: - [100-2,0 ° mot [110]] ± 0,5 °, u> 4,000cm² / Vs, Båda-sidor -polished, 1 Flat 57,5 ​​± 2,5 mm @ 110 ± ° 1, TTV <7 um, BOW <4 pM, Warp <10 um, TIR <6 ^ m, certifikat: obligatorisk, Sealed under kväve i enda skiva kassett A: Ja, kommer att kontrollera [ ...]

2018-09-13meta-författare
EPD för GaAs-substrat och epitaxiell skiva

F: Kan du råda garanterad EPD för under substrat och epi? Gallium arsenid wafers, P / E 2 "o × 380 ± 25 | im, LEC SI odopade GaAs: - [100] ± 0,5 °, n-typ Ro = (0.8E8-0.9E8) ohmcm, One-sida-polerad, back- sido matt etsas, 2 Flats, LT-GaAs EPI: 1-2μm, Resistivitet> 1E7 Ohm-cm, Carrier livstid <1PS, Sealed under kväve i enda skiva kassett. A: dislokationsdensiteten <1 × 10 ^ 6 cm-2

2018-09-06meta-författare
Gallium Arsenide Wafer, GaAs, VGF, Semi Insulating, Undoped

Q: We would like to ask for below. (001) +/- 0.5o Orientation Semi Insulating, Undoped Resistivity ≤ 1 – 10 x 108 Ohm-cm3 EPD ≤ 5000 cm-2 1 Side Polished (Ra < 10Å), EPI Ready, Back Side Etched US Semi Standard Flats, No Laser [...]

2018-07-17meta-författare