Wafer Laser Lata Kuantum

Wafer Laser Lata Kuantum

Bahan hetero epitaxial yang digunakan untuk membuat laser lata kuantum (QCL) adalah terutamanya sistem bahan GaInAs/AlInAs berasaskan InP, sistem bahan GaAs/AlGaAs berasaskan GaAs dan sistem bahan antimonid.PAM-XIAMENboleh menyediakan filem nipis laser lata kuantum berasaskan InP, seperti berikut:

wafer laser lata kuantum

1. InGaAs/InAlAs/InP untuk Diod Laser Lata Kuantum

PAM210906 – QCL

No. 1 Bahan InP Hetero Epitaxial untuk Laser Quantum-Cascade dengan Julat Spektrum 4-5μm

Lapisan No. Bahan Kumpulan lelaran Ketebalan, Å Tahap doping
Si (cm-3)
27 Dalam0.53Ga0.47Sebagai 2000
26 Dalam p
25 Dalam p
24 DalamXXGaXXSebagai
23 DalamXXAlXXSebagai
22 DalamXXGaXX1Sebagai
21 DalamXXAlXXSebagai
20 Dalam0.669Ga0.331Sebagai
19 DalamXXAlXXSebagai
18 DalamXXGaXXSebagai
17 DalamXXAlXXSebagai
16 DalamXXGaXXSebagai
15 DalamXXAlXXSebagai
14 DalamXXGaXXSebagai
13 DalamXXAlXXSebagai
12 DalamXXGaXXSebagai
11 DalamXXAlXXSebagai
10 DalamXXGaXXSebagai
9 DalamXXAlXXSebagai
8 DalamXXGaXXSebagai
7 DalamXXAlXXSebagai
6 DalamXXGaXXSebagai
5 DalamXXAlXXSebagai
4 DalamXXGaXXSebagai
3 DalamXXAlXXSebagai
2 Dalam p
1 Substrat InP 350um 3×1017

 

No. 2 InGaAs/InAlAs/InP Heteroepitaxy untuk QCL dengan Julat Spektrum 7-9μm

Lapisan No. Bahan Kumpulan lelaran Ketebalan, Å Tahap doping

Si (cm-3)

25 DalamXXGaXXSebagai 200
24 DalamXXGaXXSebagai 1
23 Dalam p
22 DalamXXGaXXSebagai
21 AlXXDalamXXSebagai
20 DalamXXGaXXSebagai
19 AlXXDalamXXSebagai
18 DalamXXGaXXSebagai
17 AlXXDalamXXSebagai
16 DalamXXGaXXSebagai
15 AlXXDalamXXSebagai
14 DalamXXGaXXSebagai
13 AlXXDalamXXSebagai
12 DalamXXGaXXSebagai
11 AlXXDalamXXSebagai
10 DalamXXGaXXSebagai
9 AlXXDalamXXSebagai
8 DalamXXGaXXSebagai
7 AlXXDalamXXSebagai
6 DalamXXGaXXSebagai
5 AlXXDalamXXSebagai
4 DalamXXGaXXSebagai
3 Al0.48Dalam0.52Sebagai
2 DalamXXGaXXSebagai 5×1016
1 Substrat InP 1-3×1017

 

No. 3 InAlAs/InGaAs Pertumbuhan Heteroepitaxial untuk QCL dengan Julat Spektrum 7-9μm

Lapisan No. Bahan kumpulan lelaran Ketebalan, Å Tahap doping
Si (cm-3)
79 DalamXXGaXXSebagai 1
78 Dalam p 2000
77 Dalam p 3
76 Dalam p 2×1016
75 AlXXDalamXXSebagai
74 DalamXXGaXXSebagai
73 AlXXDalamXXSebagai
72 AlXXDalamXXSebagai
71 DalamXXGaXXSebagai
70 AlXXDalamXXSebagai
69 DalamXXGaXXSebagai
68 AlXXDalamXXSebagai
67 DalamXXGaXXSebagai
66 AlXXDalamXXSebagai
65 DalamXXGaXXSebagai
64 AlXXDalamXXSebagai
63 DalamXXGaXXSebagai
62 AlXXDalamXXSebagai
61 DalamXXGaXXSebagai
60 AlXXDalamXXSebagai
59 DalamXXGaXXSebagai
58 AlXXDalamXXSebagai
57 DalamXXGaXXSebagai
56 AlXXDalamXXSebagai
55 DalamXXGaXXSebagai
54 DalamXXGaXXSebagai
53 AlXXDalamXXSebagai
52 DalamXXGaXXSebagai
51 AlXXDalamXXSebagai
50 DalamXXGaXXSebagai
49 AlXXDalamXXSebagai
48 DalamXXGaXXSebagai
47 AlXXDalamXXSebagai
46 DalamXXGaXXSebagai
45 AlXXDalamXXSebagai
44 DalamXXGaXXSebagai
43 AlXXDalamXXSebagai
42 DalamXXGaXXSebagai
41 AlXXDalamXXSebagai
40 DalamXXGaXXSebagai
39 AlXXDalamXXSebagai
38 DalamXXGaXXSebagai
37 AlXXDalamXXSebagai
36 DalamXXGaXXSebagai
35 AlXXDalamXXSebagai
34 DalamXXGaXXSebagai
33 AlXXDalamXXSebagai
32 DalamXXGaXXSebagai
31 AlXXDalamXXSebagai
30 DalamXXGaXXSebagai
29 AlXXDalamXXSebagai
28 DalamXXGaXXSebagai
27 AlXXDalamXXSebagai
26 DalamXXGaXXSebagai
25 AlXXDalamXXSebagai
24 DalamXXGaXXSebagai 1
23 AlXXDalamXXSebagai
22 DalamXXGaXXSebagai
21 AlXXDalamXXSebagai
20 DalamXXGaXXSebagai
19 AlXXDalamXXSebagai
18 DalamXXGaXXSebagai
17 AlXXDalamXXSebagai
16 DalamXXGaXXSebagai
15 AlXXDalamXXSebagai
14 DalamXXGaXXSebagai
13 AlXXDalamXXSebagai
12 DalamXXGaXXSebagai
11 AlXXDalamXXSebagai
10 DalamXXGaXXSebagai
9 AlXXDalamXXSebagai
8 DalamXXGaXXSebagai
7 AlXXDalamXXSebagai
6 DalamXXGaXXSebagai
5 AlXXDalamXXSebagai
4 DalamXXGaXXSebagai
3 Al0.48Dalam0.52Sebagai
2 Dalam p
1 Substrat InP 350 μm 3×1018

 

2. Mengapakah Fabrikasi Laser QCL berdasarkan Bahan Hetero-Epitaxial InGaAs/AlInAs?

Sebab penggunaan bahan hetero epitaxial InGaAs/InAlAs untuk mengarang QCL adalah:

1) Keuntungan laser QCL adalah berkadar dengan (me)– 3/2. Oleh kerana jisim berkesan elektron me dalam InGaAs adalah lebih kecil daripada jisim berkesan elektron dalam GaAs, keuntungan sistem bahan hetero epitaxial InGaAs/InAlAs adalah lebih besar daripada sistem bahan GaAs/AlGaAs;

2) Susunan jalur pengaliran sistem bahan hetero epitaxial InGaAs/InAlAs agak besar ditunjukkan seperti dalam Rajah 1, dan jurang tenaga antara keadaan peralihan laser bertenaga tinggi adalah besar, menjadikan laser semikonduktor lata kuantum lebih mudah untuk mencapai pengelasan. Di samping itu, terdapat faktor seperti kehilangan pandu gelombang dan kecekapan pelesapan haba.

Pemalar Kekisi (a) dan Jurang Jalur (b) Bahan Heteroepitaxial InGaAs/InAlAs

Rajah 1 Pemalar Kekisi (a) dan Jurang Jalur (b) Bahan Heteroepitaxial InGaAs/InAlAs

3. Apakah Itu Laser Quantum Cascade?

QCL ialah sumber cahaya monopole jalur inframerah pertengahan berdasarkan peralihan elektron antara subjalur.

Bagaimanakah laser lata kuantum berfungsi? Prinsip kerja adalah berbeza daripada laser semikonduktor konvensional. Skim pengikatnya adalah menggunakan keadaan elektronik yang dipisahkan yang disebabkan oleh kesan kurungan kuantum dalam lapisan nipis heterostruktur semikonduktor yang berserenjang dengan ketebalan paras nanometer, dan menjana penyongsangan nombor zarah antara keadaan teruja ini. Kawasan aktif laser terdiri daripada gabungan pelbagai peringkat telaga kuantum berganding (biasanya lebih daripada 500 lapisan) untuk mencapai output berbilang foton suntikan elektron tunggal. Ciri cap jari QCL ialah panjang gelombang operasi tidak berkaitan secara langsung dengan jurang jalur bahan yang digunakan, tetapi hanya ditentukan oleh jarak subjalur telaga kuantum yang digabungkan, supaya panjang gelombang laser lata kuantum boleh disesuaikan dalam julat yang besar. .

Pada masa ini, aplikasi laser lata kuantum terutamanya dalam pengesanan gas, tindakan balas inframerah dan komunikasi terahertz.

powerwaywafer

Untuk maklumat lanjut, sila hubungi kami e-mel divictorchan@powerwaywafer.com dan powerwaymaterial@gmail.com.

Kongsi siaran ini