Si (Голый Прайм, Тепловое оксид, Pt с покрытием и солнечные батареи Ранг) -8

Si (Голый Прайм, Тепловое оксид, Pt с покрытием и солнечные батареи Ранг) -8

РАМ СЯМЫНЬ предлагает Si (Bare Prime, Термальный оксид, Pt с покрытием и солнечных батарей Ранг).

РАМ СЯМЫНЬ поставляет все виды кремниевой пластины от 1 "~ 8" в диаметре. В частности, специализирующиеся на изготовлении Si пластины с различными специальными размерами и ориентацией.

6 "Диаметр Вафли

Кремниевая пластина (100), 6»диаметр х 0,65 - 0,7 мм, 1SP Н-тип (Р-легированный) с удельным сопротивлением: 1-20 Ом · см

Кремниевая пластина (111), 6»диаметр х 0,65 - 0,7 мм, тип 1SP Р (В легированном) с сопротивлениями: 5-10 Ом · см

Кремниевая пластина (111), 6»диаметр х 0,65 - 0,7 мм, тип 1SP Р (В легированном) с сопротивлениями: 5-10 Ом · см

Для получения дополнительной информации, пожалуйста, посетите наш веб-сайт: https://www.powerwaywafer.com,
отправить нам письмо по адресу sales@powerwaywafer.com и powerwaymaterial@gmail.com

Найдено в 1990 году, Сямэнь Powerway Advanced Material Co., Ltd (PAM-СЯМЫНЬ) является ведущим производителем полупроводникового материала в Китае.РАМ-СЯМЫНЬ разрабатывает передовые роста кристаллов и эпитаксию технологию, производственные процессы, спроектированные подложки и полупроводниковые приборы.технологии PAM-СЯМЫНЬ позволяют более высокую производительность и низкую стоимость изготовления полупроводниковой пластины.

РАМ-СЯМЫНЬ разрабатывает передовые роста кристаллов и эпитаксии технологии, диапазон от первого поколения Германий пластин, второго поколения на основе арсенида галлия с ростом подложки и эпитаксии на III-V кремния, легированного полупроводниковых материалов п-типа на основе Ga, Al, In, As и P выращенный метод МЛЭ или MOCVD, к третьему поколению: карбид кремния и нитрид галлия для светодиодов и применения устройства питания.

Поделиться этой записью