PAM-XIAMEN can offer 780nm laser diode wafer with quantum well based on GaAs substrate. The semiconductor lasers fabricated our LD wafer are applied in the fields of laser cutting, laser coating, laser medical treatment, optical communication, infrared security and etc., which have the disadvantages [...]
2016-06-13メタ著者
There are three basic types of semiconductor materials: intrinsic semiconductors, extrinsic semiconductors, also known as impurity semiconductors. Both types of semiconductor materials can be supplied by PAM-XIAMEN.
1. What Is Intrinsic Semiconductor?
Intrinsic semiconductor refers to a pure semiconductor that is completely free of impurities and [...]
2022-06-20メタ著者
PAM XIAMEN offers 4″FZ Prime Silicon Wafer-9
4″ Silicon Wafer
Orientation (100)
Thickness 525±25μm
SSP
P type, Boron doped
Resistivity>200Ωcm
Roughness<8 Angstrom
For more information, send us email at sales@powerwaywafer.com and powerwaymaterial@gmail.com
2020-06-11メタ著者
PAM XIAMEN offers Tatalum Metal Substrate & Foil ( Polycrystalline ).
General Properties for Tantalum
Symbol Ta
Atomic Number 73
Atomic Weight: 180.95
Density: 16.69 g/cm3
Melting Point: 2996 °C
Boiling Point: 5425+/-100 °C
Ta – Tantalum Polycrystalline Metallic Foil: 0.05mm thick x 200mm Width x 400 [...]
2019-05-20メタ著者
PAM XIAMEN は 4 インチのエピタキシャル シリコン ウェーハを提供しています。 必要に応じて、SRP(耐拡散性プロファイル)テストを行うことができます。 項目 パラメータ 仕様 単位 1 成長方法 CZ 2 直径 100+/-0.5 mm 3 タイプ - ドーパント P- ボロン 4 抵抗率 0.002 – 0.003 ohm-cm 5 抵抗率の半径方向の変化 <10 % 6 結晶方位 <111> 4 +/- 0.5 度7 一次フラット配向 半度 長さ Semi mm 8 二次フラット配向 半度 長さ semi mm 9 厚さ 525 +/- 25 μm 10 TTV ≦10 μm 11 反り ≦40 μm 12 反り ≦40 μm 13 表面研磨 14 裏面エッチング — 5000 +/-10% オングストム SiO2 15 表面の外観 傷、曇り、エッジの欠け、オレンジの皮、欠陥、汚染なし — 16 エッジ [...]
2021-03-16メタ著者
PAM XIAMEN offers 4″ Silicon EPI Wafers.
Substrate
EPI
Comment
Size
Type
Res
Ωcm
Surf.
Thick
μm
Type
Res
Ωcm
4″Øx525μm
n- Si:As[111]
0.0010-0.0035
P/E
37
p- Si:B
35±10%
P/N/N+
4″Øx525μm
n- Si:As[111]
0.0010-0.0035
P/E
16.5
n- Si:P
12.5±10%
P/N/N+
4″Øx525μm
n- Si:As[111]
0.0010-0.0035
P/E
45
p- Si:B
13±10%
P/N/N+
4″Øx525μm
n- Si:As[111]
0.0010-0.0035
P/E
7±1
n- Si:P
12±10%
P/N/N+
4″Øx525μm
n- Si:As[111]
0.0010-0.0035
P/E
45
p- Si:B
14.5±10%
P/N/N+
4″Øx525μm
n- Si:As[111]
0.0010-0.0035
P/E
7
n- Si:P
12±10%
P/N/N+
4″Øx525μm
n- Si:As[111]
0.002-0.005
P/E
88
p- Si:B
80.5±10%
P/N/N+
4″Øx525μm
n- Si:As[111]
0.002-0.005
P/E
88
n- Si:P
27±10%
P/N/N+
4″Øx380μm
n- Si:As[111]
0.002-0.005
P/E
105
p- Si:B
0.0035±10%
P/N/N+
4″Øx380μm
n- Si:As[111]
0.002-0.005
P/E
26
n- Si:P
5±10%
P/N/N+
4″Øx525μm
n- Si:As[111]
0.0010-0.0035
P/E
10.15
n- Si:P
3.8±0.5
N/N/N+
4″Øx525μm
n- Si:As[111]
0.0010-0.0035
P/E
6.8±0.8
n- Si:P
0.55±0.15
N/N/N+
4″Øx380μm
n- Si:As[111]
0.004-0.008
P/EOx
16.5
n- Si:P
35 ±10%
N/N+
4″Øx508μm
n- Si:As[111]
0.002-0.005
P/E
19±1.3
n- Si:P
25±5
N/N/N+
4″Øx508μm
n- Si:As[111]
0.002-0.005
P/E
54.5±3.6
n- Si:P
4.4
N/N/N+
4″Øx380μm
n- Si:As[111]
0.001-0.005
P/EOx
20
n- Si:P
270 ±10%
N/N+
4″Øx400μm
n- Si:As[111]
0.001-0.005
P/E
20
n- Si:P
0.09 ±10%
N/N+
4″Øx400μm
n- [...]
2019-03-08メタ著者