フォトマスク大型

フォトマスク大型

PAM XIAMENは、大型フォトマスクを提供しています。

クロム板精度（標準サイズ：430mmx430mm）

精度/グレード 最大精度 高精度 中精度 一般的な精度
最小線/スペース幅 0.75μm/0.75μm 5μm/5μm 10μm/10μm 20μm/20μm
CDコントロール ±0.15μm（QZ） ±0.5μm ±1.0μm ±2.0μm
総ピッチ精度 ±0.5μm（QZ） ±1.0μm ±2.0μm ±2.0μm
登録精度 ±0.5μm（QZ） ±1.0μm ±2.0μm ±3.0μm
オーバーレイ精度 ±0.5μm（QZ） ±1.0μm ±2.0μm ±3.0μm
直交性 ±0.75μrad ±2.0μrad ±3.0μrad ±4.0μrad

 

クロム板材（フォトマスクブランク板）

材料 ソーダライムグラス、クォーツ
マックス。 サイズ 850mm * 1400mm
通常サイズ 420mmx520mm、520mm * 610mm、520mm * 800mm、700mm * 800mm、
800mm * 920mm、800mm * 960mm、850mm * 1200mm、850mm * 1400mm
厚さ 2.3±0.2mm、3.0±0.2mm、4.8±0.2mm、7.8±0.2mm、
5.0±0.2mm（QZ）、8.0±0.2mm（QZ）、10.0±0.2mm（QZ）
フィルムタイプ 低反射クロム
光学密度
（λ= 450nm）		 BetweenPlates3.0±0.3InPlate±0.3
反射率
（λ= 436nm）		 BetweenPlates10±5％InPlate±2％

 

主な応用分野：
1、LCD、TFT、CF、TouchPanel、OLED、PDPおよびその他のフラットパネルディスプレイ産業
2、HDI、FPCおよび他のPCB産業。

For more information, please visit our website: https://www.powerwaywafer.com,
send us email at sales@powerwaywafer.com and powerwaymaterial@gmail.com

 

1990年に設立されたXiamen Powerway Advanced Material Co.、Ltd（PAM-XIAMEN）は、中国の半導体材料の大手メーカーです。PAM-XIAMENは、高度な結晶成長およびエピタキシー技術、製造プロセス、設計された基板、半導体デバイスを開発しています。PAM-XIAMENの技術は、半導体ウエハーの高性能と低コストの製造を可能にします。

私たちの目標は、どんなに小さな注文でも、どんなに難しい質問でも、すべての要件を満たすことです。 弊社の認定製品と満足のいくサービスを通じて、すべてのお客様の持続的で収益性の高い成長を維持するため。

2019-07-04

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