ブルーGaN系LDウエハー

ブルーGaN系LDウエハー

PAM-XIAMEN can offer 2” InGaN/GaN quantum well blue laser diode wafer on sapphire or silicon substrate as follows. The blue GaN LD wafer for commercial applications illustrates the great potential of III-V epitaxial wafers.

1. Specification of 440-460nm Blue GaN LD wafer 

PAM190909-GAN-LD

アイテム 説明 マテリアル 基板
青色レーザー 440-460nm InGaN系 2 inch Sapphire substrate***
GaN系青色LD EPIウェーハ仕様
 Spec
LD Epitaxial Wafer Size
成長 MOCVD
直径 50.8±0.2ミリメートル
厚さ 430±30μmの
EPI厚さ ええと
EPIウエハ構造
コンタクト層 p型GaN系
超格子クラッド層 p型GaN系
電子ブロック層 p型AlGaNから
導波路層 アンドープInGaN
QWとQB層 InGaNとGaN
導波路層 n個のInGaNを入力
クラッド層 n個のAlGaNを入力
基板 シリコン

 

2. Structure of Blue Laser Diode Epitaxial Wafer

PAM-190130-LD

substrates t (nm) 構成 Doping
Al% ln% [Si] [Mg]
uGaN 2000-3000
nGaN
AlGaN 6-10
lnGaN
MQW
(2pairs)
lnGaN-QW ~2.5
GaN-QB
lnGaN 1-2
AlGaN 1.OE+19
pGaN
コンタクト層 5

 

3. GaN based Laser Diode Epitaxial Wafer, Blue Emission

PAM-191206–LD

Epitaxial Blue LD Structure with Emission Wavelength of 440~460nm

Layer Name 材料 厚さ
Contact Layer p-type GaN 30nm
Superlattice Cladding Layer (80~150 pairs) p-type GaN
p-type AlxxGaxxN
Electron Blocking Layer (EBL) p-type Al0.2Ga0.8N
導波路層 undoped In0.035Ga0.965N
MQW (xx pairs) undoped GaN QB
InxxGaxxN QW
導波路層 n-type InxxGaxxN  –
クラッド層 n-type Al0.6Ga0.94N 1.4um
基板 シリコン  

4. Other Parameters

nternal Loss:Unknown
IQE: Unknow
Lifetime:xx seconds@CW, >10 hours@pulse mode
Peak Optical Power:xx mW@pulse mode.

The laser diode wafer process on silicon substrate is mainly by MOCVD method.

 

 

 

 

 

Please contact our technology dept to discuss blue GaN LD wafer specifications,including other wavelength, dimension, layer thickness and epitaxial design.

パワーウェイウェーハ

For more information, please contact us email at victorchan@powerwaywafer.com and powerwaymaterial@gmail.com.

 

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