PAM-XIAMEN предлагает пластины InGaAs APD с высокими характеристиками. Лавинные фотодиоды InGaAs (InGaAs APD) высоко ценятся за низкий уровень шума, более широкую полосу пропускания и спектральный отклик, расширенный до 1700 нм. Он доступен для длины волны 1550 нм после оптимизации и очень подходит для использования в безопасных для глаз лазерных системах локации. Характеристики и параметры пластин InGaAs APD следующие:
PAM-210331-INGAAS-APD
Пункт 1:
Слой | Материал | Толщина (мкм) | Отклонение | концентрация (см-3) | Отклонение | Тест | Заметка |
9 | U-1,05 мкм InGaAsP | – | ± 10% | – | ± 20% | ||
8 | N-InP | 2.5 | – | 5E + 15 | ± 20% | резюме | На тестовой вафле |
7 | N-InP | – | ±0.01 | – | – | резюме | На тестовой вафле |
6 | N-1,05 мкм InGaAsP | 0.03 | – | – | – | – | – |
5 | N-1,25 мкм InGaAsP | – | ± 10% | – | – | – | – |
4 | N-1,45 мкм InGaAsP | – | ± 10% | 2E + 16 | – | – | – |
3 | N-InGaAs | – | ±0.01 | – | ± 10% | – | – |
2 | U-InGaAs | 2.5 | – | <1E + 15 | DCXD и C-V | На эпивафле и тестовой пластине | |
1 | N-InP | – | ± 10% | – | ± 20% | резюме | На тестовой вафле |
0 | Подложка N-InP | 350 ± 25 | – | S-легированный> 3E + 18 | – | – | 2 ″ вафли |
# | Несоответствие решеток | <± 100 частей на миллион | – | – | – | DCXD | Тест на центре эпивафера |
Пункт 2:
Слой | Материал | Толщина (мкм) | Отклонение | концентрация (см-3) | Отклонение | Тест | Заметка |
9 | U-1,05 мкм InGaAsP | 0.1 | ± 10% | – | ± 20% | – | – |
8 | N-InP | – | ±0.12 | – | ± 20% | резюме | На тестовой вафле |
7 | N-InP | 0.2 | – | – | – | резюме | На тестовой вафле |
6 | N-1,05 мкм InGaAsP | – | – | 2E + 16 | – | – | – |
5 | N-1,25 мкм InGaAsP | – | ± 10% | – | – | – | – |
4 | N-1,45 мкм InGaAsP | 0.03 | ± 10% | – | – | – | – |
3 | N-InGaAs | 0.1 | – | 1E + 16 | ± 10% | – | – |
2 | U-InGaAs | – | ± 10% | – | – | DCXD и C-V | На эпивафле и тестовой пластине |
1 | N-InP | 0.5 | – | – | ± 20% | резюме | На тестовой вафле |
0 | Подложка N-InP | 350 ± 25 | – | S-легированный> 3E + 18 | – | – | 2 ″ вафли |
# | Несоответствие решеток | <± 100 частей на миллион | – | – | – | DCXD | Тест на центре эпивафера |
Пункт 3:
Слой | Материал | Толщина (мкм) | Отклонение | концентрация (см-3) | Отклонение | Тест | Заметка |
9 | U-1,05 мкм InGaAsP | 0.1 | – | 5E + 15 | ± 20% | – | – |
8 | N-InP | – | – | – | ± 20% | резюме | На тестовой вафле |
7 | N-InP | 0.2 | ±0.01 | – | – | резюме | На тестовой вафле |
6 | N-1,05 мкм InGaAsP | – | ± 10% | – | – | – | – |
5 | N-1,25 мкм InGaAsP | 0.03 | – | – | – | – | – |
4 | N-1,45 мкм InGaAsP | – | – | 2E + 16 | – | – | – |
3 | N-InGaAs | – | ±0.01 | – | ± 10% | – | – |
2 | U-InGaAs | 2.5 | – | <1E + 15 | DCXD и C-V | На эпивафле и тестовой пластине | |
1 | N-InP | – | ± 10% | – | ± 20% | резюме | На тестовой вафле |
0 | Подложка N-InP | 350 ± 25 | – | S-легированный> 3E + 18 | – | – | 2 ″ вафли |
# | Несоответствие решеток | <± 100 частей на миллион | – | – | – | DCXD | Тест на центре эпивафера |
Пункт 4:
PAM221226-1550-APD
Слой | Материал | Толщина (мкм) | Допинг(см3) |
7 | InP | – | нелегированный (N<1E15) |
6 | InP | 0.2 | – |
5 | GaInAsP | – | – |
4 | GaInAsP | – | – |
3 | GaInAsP | – | – |
2 | Ga0.467In0.5333As | 2 | – |
1 | InP | – | Легированный Si, n-тип, 1,3E17 |
Подложка N+ InP |
Для получения дополнительной информации, пожалуйста, свяжитесь с нами по электронной почте по адресу victorchan@powerwaywafer.com и powerwaymaterial@gmail.com.