InGaAsの構造ウェハー

InGaAsの構造ウェハー

InGaAs構造ウェーハ

インジウムガリウムヒ素(InGaAs)は、ガリウムインジウムヒ素とも呼ばれ、インジウム、ガリウム、ヒ素という3つの化学元素の化合物のファミリーの一般名です。 インジウムとガリウムはどちらもホウ素族元素であり、しばしば「III族」と呼ばれますが、ヒ素はプニクトゲンまたは「V族」元素です。 半導体物理学では、これらのグループの元素の化合物はしばしば「III-V」化合物と呼ばれます。 インジウムとガリウムは同じグループに属しているため、化学結合において同様の役割を果たし、InG​​aAsはガリウムヒ素とインジウムヒ素の合金と見なされることが多く、その特性は2つの中間であり、ガリウムとインジウムの比率に依存します。 。 典型的な条件下では、InGaAsは半導体であり、オプトエレクトロニクス技術において特に重要であるため、広く研究されてきました。

 

現在、次のように新しい2インチInGaAs構造ウェーハを提供しています。

構造1:

InP(ノンドープ)(4〜5 nm)
In0.53Ga0.47As (lightly p type)

(20 nm)

InP(ドープなし)(30 nm)
In0.52Al0.48As (lightly p type)

(100〜200 nm)

2インチInPサブ (非ドープまたはpタイプ)

構造2:

n ++ InGaAs(〜30 nm)(5×1019 cm-3、高いほど良い)
InP(ドープなし)(〜3 nm)
In0.53Ga0.47As(ドープなし)(10 nm)
In0.52Al0.48As(アンドープ)(100〜200 nm)
2インチInP

構造3

n ++ InGaAs(〜30 nm)(5×1019 cm-3、高いほど良い)
InP(アンドープ)(3〜5 nm)
In0.7Ga0.3As(ドープなし)(3 nm)
InAs(ドープなし)(2 nm)
In0.53Ga0.47As(ドープなし)(5 nm)
In0.52Al0.48As(ドープなし)(200 nm)
Si(ウェーハサイズ:大きいほど良い。)

:構造4:

InP(ノンドープ)(4〜5 nm)
In0.53Ga0.47As (lightly p type)

(20 nm)

In0.52Al0.48As(ドープなし)(10 nm)
バッファ層が必要

:構造5:

n ++ InGaAs(〜30 nm)(5×1019 cm-3、高いほど良い)
InP(ドープなし)(〜3 nm)
In0.53Ga0.47As(ドープなし)(10 nm)
In0.52Al0.48As(ドープなし)(10 nm)
バッファ層

 

出典:PAM-厦門

 

新しいInGaAs構造ウェーハの詳細情報が必要な場合は、当社のWebサイトにアクセスしてください。https://www.powerwaywafer.com、sales @ powerwaywafer.comまたはpowerwaymaterial@gmail.comにメールを送信してください。

 

この記事を共有します